[发明专利]一种掩模板及其加工方法

说明书

技术领域

本发明涉及OLED显示及照明技术领域，特别涉及一种掩模板及其加工方法。

背景技术

有机电致发光器件，具有自发光、反应时间快、视角广、成本低、制造工艺简单、分辨率佳及高亮度等多项优点，被认为是下一代的平面显示器新兴应用技术。在 OLED（Organic Light-Emitting Diode，有机电致发光二极管） 技术中，真空蒸镀中的掩模板技术是一项非常重要和关键的技术，该技术的等级直接影响 OLED 产品的质量和制造成本。

在应用于蒸镀时，传统工艺的蒸镀用掩模板一般采用正反同时蚀刻工艺，虽然可以制作出带有一 定锥度的开口，但由于侧蚀的原因，使得掩模板贴紧蒸镀 ITO 玻璃基板的铟锡氧化物接触面 的铟锡氧化物接触面开口存在倒锥度，该种倒锥角的存在，产生死角区域 ，由于该死角区域的存在，无法达到蒸镀厚度要求，导致蒸镀材料的成膜均匀性降低，影响蒸镀质量，延长了蒸镀时间，增加制造成本。

一般蒸镀用荫罩（即掩模板）的厚度在 100μm 左右，而需蒸镀的有机材料膜的厚度在100nm左右，荫罩上的开口尺寸最小可以是 10μm，所以无锥度开口的侧壁势必会在蒸镀过程中产生遮挡。另一方面，如果通过减薄荫罩的厚度的方法来降低荫罩的遮挡程度，又会影响荫罩的使用寿命，因为荫罩过薄，易变形，影响的荫罩的使用，降低蒸镀质量。

发明内容

本发明的主要目的在于，针对上述现有技术中的不足，提供一种掩模板及其加工方法，既能提高有机发光材料的使用率和成膜率，又能提高掩模板的加工效率，具有工艺简单、良品率高、加工效率高、制造成本低和实用性强等优点。

为实现上述发明目的，本发明提供一种掩模板，包括ITO接触面和蒸镀面，在所述蒸镀面上设置有多个蒸镀孔，所述蒸镀孔自所述蒸镀面贯穿至所述ITO接触面，且截面呈阶梯状，所述蒸镀孔包括同轴设置的第一段和第二段，所述蒸镀孔的尺寸自所述第一段向第二段呈逐渐收缩状。

优选地，所述第一段和第二段均由激光切割而成，且切割方向相同。

优选地，所述第二段呈锥形，所述锥形的锥角为4~10度。

优选地，所述掩模板的厚度为18～190μm。

优选地，所述第二段的垂直深度为10～50μm。

优选地，所述掩模板的材料为镍钴合金、镍铁合金、铟瓦合金中的任意一种，厚度为18～45μm。

本发明还提供一种上述掩模板的加工方法，该加工方法包括以下步骤：

采用激光工艺在所述蒸镀面上沿垂直于所述ITO接触面的方向加工出所述第一段，并控制加工余量；

调整激光位置，沿所述第一段的加工方向在所述加工余量上加工出所述第二段。

优选地，所述加工余量为10~50μm。

本发明先采用激光工艺在蒸镀面上加工出蒸镀孔的第一段，再调整激光位置，继续沿着第一段的末端向ITO接触面继续加工出第二段蒸镀孔，由于激光加工出的蒸镀孔的孔壁呈锥形，使蒸镀孔在掩模板上呈现出逐渐收缩的态势，克服了传统工艺中出现的死角区域，使得在应用于蒸镀时，有机发光颗粒可以较大限度地到达玻璃基板上的预定位置，从而提高了OLED显示屏的质量，提高了有机发光材料的使用率和成膜率。同时，本发明仅使用激光工艺来完成蒸镀孔的加工，省去了使用多种工艺加工蒸镀孔时需要的二次拆卸和装夹工序，也避免了使用多种工艺加工蒸镀孔所带来的安装误差，从而可有效提高蒸镀孔的加工精度和加工效率，降低掩模板的生产成本，从而降低了OLED显示屏的制造成本，具有广阔的市场前景。

附图说明

图1是本发明实施例中掩模板的结构示意图。

本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。

具体实施方式

以下将结合附图及具体实施例详细说明本发明的技术方案，以便更清楚、直观地理解本发明的发明实质。

图1是本发明实施例中掩模板的结构示意图。

参照图1所示，本实施例提供一种掩模板1，包括ITO接触面11和蒸镀面12，在蒸镀面12上设置有多个呈中心对称状的蒸镀孔2，蒸镀孔2自蒸镀面12贯穿至ITO接触面11。蒸镀孔2的截面呈阶梯状，包括同轴设置的第一段和第二段，蒸镀孔的尺寸自第一段向第二段呈逐渐收缩状。