[发明专利]一种多晶硅线痕片的制绒方法无效
申请号: | 201210576671.3 | 申请日: | 2012-12-26 |
公开(公告)号: | CN103035780A | 公开(公告)日: | 2013-04-10 |
发明(设计)人: | 许颖;武涛;赵钊;陈招银;郑炜 | 申请(专利权)人: | 太阳能光伏北京市工程研究中心有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;C30B33/10 |
代理公司: | 北京纽乐康知识产权代理事务所 11210 | 代理人: | 秦月贞 |
地址: | 101102 北京市通*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 多晶 硅线痕片 方法 | ||
技术领域
本发明涉及太阳能电池技术领域,具体涉及一种多晶硅线痕片的制绒方法。
背景技术
在能源与环境日趋紧张的今天,光伏行业得到了飞速的发展。为了节省企业的经济成本,增加企业的经济效益,降低生产成本、提高太阳能电池的效率已经成为众多企业所研究的重点。如图1所示,硅片经常容易出现线痕,线痕是影响硅片表面质量的一个重要因素,硅片质量的好坏直接关系到电池片的制造和加工,早期电池片生产所用到的硅片较厚,如今在硅片的生产过程中比较容易出现线痕问题,我们可以使用抛光研磨去除硅片线痕,光伏行业的硅片越来越薄,在原料紧缺的情况下,不可能把原料浪费在研磨损失上,而且增加工艺会增加成本,研磨工艺在太阳能电池行业是不适用的。如图2所示,在现有制绒方法中,电池片生产过程需要利用化学腐蚀制备绒面,线痕是影响硅片表面质量的一个重要因素,线痕的存在还会影响电池片的生产工艺,电池片生产过程需要利用化学腐蚀制备绒面,线痕可能会影响腐蚀,增加电池片制备的困难并且影响转换效率,同时从组件的角度讲,影响组件外观,长期使用易造成破片或功率衰减,大大降低了产品的使用性,造成资源的浪费,给人们带来不便。
发明内容
本发明的目的是提供一种多晶硅线痕片的制绒方法,以克服目前现有方法中存在的资源浪费,经济成本高以及长期使用会造成破片或功率减退等不足。
本发明的目的是通过以下技术方案来实现:
一种多晶硅线痕片的制绒方法,包括以下步骤:
(1)在8℃~10℃恒温槽内配制硝酸和氢氟酸的混合溶液,该混合溶液为制绒液;
(2)将多晶硅线痕片进行装载,然后在制绒液中制绒清洗,清洗1~3分钟;以及
(3)制绒清洗后,将多晶硅线痕片依次进行纯水清洗、碱洗、第二次纯水清洗、去离子清洗以及第三次纯水清洗过程,然后将硅片在温度为40℃的空气下烘干,最后将硅片卸载,得到制绒后的硅片。
进一步的,所述步骤(1)中,硝酸的浓度为33%~35%,氢氟酸的浓度为5%~6%。
优选的,所述步骤(3)中,所述碱洗溶液为:浓度为8%的氢氧化钠溶液;所述步骤(3)中,所述去离子清洗液为:浓度为5%的盐酸溶液。
本发明的有益效果为:本发明的工艺过程简单,便于操作,使用抛光和制绒一步处理,大大缩短了制绒反应时间,同时处理后的多晶硅线痕片表面形成均匀绒面,有效去除了切割所产生的线痕,有利于提高太阳能电池的工作效率,提高了电池的吸光能力,可用于大规模的生产。
附图说明
下面根据附图对本发明作进一步详细说明。
图1是在显微镜下经放大50倍的多晶硅线痕片形貌图;
图2是现有制绒方法处理后,在显微镜下经放大50倍的多晶硅线痕片绒面形貌图;
图3是本发明制绒方法处理后,在显微镜下经放大50倍的多晶硅线痕片绒面形貌图。
具体实施方式
本实施所述的一种多晶硅线痕片的制绒方法,包括以下步骤:
(1)在8℃~10℃恒温槽内配制硝酸和氢氟酸的混合溶液,该混合溶液为制绒液,其中,硝酸的浓度为33%~35%,氢氟酸的浓度为5%~6%;
(2)将多晶硅线痕片进行装载,然后在制绒液中制绒清洗,清洗1~3分钟;以及
(3)制绒清洗后,将多晶硅线痕片依次进行纯水清洗、碱洗、第二次纯水清洗、去离子清洗以及第三次纯水清洗过程,然后将硅片在温度为40℃的空气下烘干,最后将硅片卸载,得到制绒后的硅片。
所述步骤(1)中,硝酸的浓度为33%~35%,氢氟酸的浓度为5%~6%;所述步骤(3)中,所述碱洗溶液为:浓度为8%的氢氧化钠溶液;所述步骤(3)中,所述去离子清洗液为:浓度为5%的盐酸溶液。
使用本发明的制绒方法处理后,如图3所示,硅片表面多晶硅绒面均匀,外观良好,有利于提高太阳能电池的效率,与现有的处理方法相比,本发明在制绒槽中提高了反应溶液中硝酸的浓度,使得硅片表面的线痕很好的抛光,在相同条件下,又获得了1~3μm且均匀的绒面,而且腐蚀掉的多晶硅的厚度为6~10μm;另外本发明使用抛光和制绒一步处理,缩短了制绒反应的时间,操作过程简单,不仅节省了资源,而且保证了硅片的使用质量,给人们带来方便,很具有实用性。
虽然以上仅描述了本发明的具体实施方式范例,但是本领域的技术人员应当理解,这些仅是举例说明,本发明的保护范围是由所附权利要求书限定的。本领域的技术人员在不背离本发明的原理和实质的前提下,可以对这些实施方式做出多种变更或修改,但这些变更或修改均落入本发明的保护范围。
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