[发明专利]一种埋砂电镀立方氮化硼的方法

权利要求书

1.一种埋砂电镀立方氮化硼的方法，该方法包括以下步骤：

（1）预镀：在基体上预镀镍钴合金层；

（2）埋砂镀：以步骤（1）制备的镍钴合金层为胎体利用埋砂法将立方氮化硼镶嵌到基体上；

（3）增厚镀：埋砂完成后，进行增厚镀；

其特征在于：

所述镀液包括以下浓度的组分：七水硫酸镍 270-290g/L，七水硫酸钴 28-32g/L，氯化钠 14-16g/L，硼酸 30-34g/L，硫酸钠 0.8-1.0g/L，糖精 0.8-1.0g/L，1,4-丁炔二醇 0.4-0.6g/L，十二烷基硫酸钠 0.06-0.08g/L；所述镀液的pH值为4.8-4.9；当进行电镀时，所述镀液温度为55-57℃。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述增厚镀完成后，依次重复进行所述步骤（2）的埋砂法镶嵌立方氮化硼和步骤（3）的增厚镀。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于：所述镀液包括以下浓度的组分：七水硫酸镍 280g/L，七水硫酸钴 30g/L，氯化钠 15g/L，硼酸 32g/L，硫酸钠 0.8g/L，糖精 0.9g/L，1,4-丁炔二醇0.4g/L，十二烷基硫酸钠 0.06g/L；所述镀液的pH值为4.8。

4.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于：所述预镀镍钴合金层时，控制电流密度为1A/dm²；所述预镀镍钴合金层的厚度为10μm。

5.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于：所述基体是直径为2-4cm的金刚砂球；所述立方氮化硼的大小为100-120目、80-100目或60-80目；当所述立方氮化硼的大小为100-120目时，控制所述步骤（2）中埋砂镀的电流密度为0.4-0.5A/dm²；当所述立方氮化硼的大小为80-100目时，控制所述步骤（2）中埋砂镀的电流密度为0.5-0.7A/dm²；当所述立方氮化硼的大小为60-80目时，控制所述步骤（2）中埋砂镀的电流密度为0.7-0.8A/dm²。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述增厚度完成后，镀层的厚度为0.4—0.5mm 。

7.根据权利要求2所述的方法，其特征在于：所述第一次增厚镀之后，再进行第二次埋砂镀和增厚镀，得到镀层的总厚度为0.6-0.8mm。

8.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于：所述基体在进行预镀前，先进行脱脂和活化处理。