[发明专利]一种芍药切花槽式无土栽培方法无效
申请号: | 201210593004.6 | 申请日: | 2012-12-31 |
公开(公告)号: | CN103026956A | 公开(公告)日: | 2013-04-10 |
发明(设计)人: | 刘燕;贾清华;韩婧;刘利刚;黄国京;甄宏宇 | 申请(专利权)人: | 北京林业大学 |
主分类号: | A01G31/00 | 分类号: | A01G31/00;A01G31/02;A01C21/00 |
代理公司: | 北京瑞思知识产权代理事务所(普通合伙) 11341 | 代理人: | 王加岭 |
地址: | 100083 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 芍药 切花 无土栽培 方法 | ||
1.一种芍药切花槽式无土栽培方法,其特征在于:
1)大棚内开挖下凹式土槽作为种植槽,对槽底及侧面进行消毒处理,槽底与侧面铺无纺布,槽底无纺布上铺陶粒作为沥水层,槽内装填无土栽培基质;
2)秋季槽内单行种植切花芍药,使其在自然环境下接受低温,待平均日气温降至0℃以下的1-2月,用草帘覆盖植株,以免植株受冻害;室外平均气温达到0℃-5℃,用薄膜覆盖温室,进行日光加温;覆膜后5-7天,撤去覆盖草帘;之后每隔3-4天早晚通风,将温室温度控制在22℃-25℃;至室外平均气温达到10℃-15℃,每日进行通风处理;待室外温度达到22-25℃时,拆除温室薄膜;
3)配套施肥方法:于芍药萌芽开始,施用N、P、K质量百分比分别为20%:20%:20%的的水溶性复合肥,每隔7-10天施用一次,施肥浓度为1.5g/L,施肥量为1L/株·次;芍药花期过后,每隔1个月施用一次,施肥浓度为3.0g/L,施肥量为1L/株·次,施用3次。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,种植槽的长为15m,宽50cm,高45cm。
3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,对种植槽底部及侧面进行消毒处理,具体步骤为:用70%的代森锰锌800-1000倍喷洒2遍,晾干后再次喷洒1遍。
4.如权利要求1所述的方法,其特征在于,种植槽底部及侧面铺100g/m2的无纺布,将土壤和基质隔开。
5.如权利要求1所述的方法,其特征在于,在底部铺5-8cm厚的陶粒作为沥水层,陶粒粒径为1.0-3.5cm。
6.如权利要求1所述的方法,其特征在于,草炭:蛭石:珍珠岩体积比3:1:1混合作为无土栽培基质,基质中混合鸡粪,基质与鸡粪的体积比为9:1,装填基质的厚度为35-38cm。
7.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述薄膜为厚0.1mm、透光率为95%的PEP利得膜。
8.如权利要求1~7任一项所述的方法,其特征在于,所述芍药品种为‘紫凤羽’。
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