[发明专利]显微镜检验用试样的制备方法及检查试样覆盖质量的装置有效

专利信息
申请号: 201210599204.2 申请日: 2012-12-12
公开(公告)号: CN103257061B 公开(公告)日: 2018-09-11
发明(设计)人: B·奈夫;C·维尔克;K-H·维斯特霍夫 申请(专利权)人: 徕卡生物系统努斯洛克有限公司
主分类号: G01N1/28 分类号: G01N1/28;G02B21/34
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 顾峻峰
地址: 德国努*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 显微镜 检验 试样 制备 方法 检查 覆盖 质量 装置
【说明书】:

一种其上盖有盖玻片的显微镜检验用试样的制备方法。该方法的特征在于覆盖质量被自动地且至少部分地是光学地检查。本发明还涉及执行该方法的装置、成像装置和用于检查其上盖有盖玻片的试样的覆盖质量的装置,该装置可以快速且可靠地检查被覆盖的试样的覆盖质量。

技术领域

本发明涉及其上盖有盖玻片的显微镜检验用试样的制备方法。

本发明还涉及用于检查其上盖有盖玻片的试样覆盖质量的装置。

背景技术

在显微研究的准备过程中,例如可以是诸如组织切片的欲查验的试样通常被放在载玻片上,并在盖上盖玻片之前用覆盖介质进行处理,覆盖介质优选具有适合盖玻片或载玻片折射率的折射率,且起到粘结剂的功能。由于覆盖试样通常是个非常耗时的过程,经常为此使用覆盖机器。

例如从DE 101 44 048 A1已知用于处理载玻片和盖玻片的装置。使用该装置,借助于由致动臂引导的接纳单元,盖玻片被分别接纳,并置于载玻片上的期望位置。

在覆盖过程中会出现多种缺陷。例如,可能会发生盖玻片整个或局部破裂的情况,这会导致覆盖介质露出,形成进一步的缺陷。作为进一步的缺陷,在盖玻片下会出现包含气体;这将在之后的显微查验中造成不利影响,或者使得显微研究实际上不可能进行。

当覆盖过程中出现缺陷时,这些缺陷通常只有在显微镜检验中才被发现。这为常规实验室操作带来了大量严重问题,因为这时通常不能重新覆盖试样。尤其是在有大量试样要查验时,例如在连续处理中,这种缺陷导致实验室整体研究效率的大幅度降低,因为整个过程顺序而不仅仅是覆盖过程被打乱了。

US5566249公开了一种用于检测覆盖介质中的气泡的装置。该装置包括图像生成器件,盖玻片的图像可以利用该器件产生,而且该器件可实施成自动扫描显微镜。还设有用于识别气泡边缘和用于进一步的图像处理的器件。

发明内容

本发明的目的是描述一种方法,该方法使避免或者至少减轻前面提到的问题成为可能。

这一目的通过一种方法达到,该方法的特征在于,自动地并至少部分在暗场照明下光学地检查覆盖质量。

本发明进一步的目的是描述一种装置,该装置使快速且可靠地检查其上盖有盖玻片的试样的覆盖质量成为可能。

这进一步的目的通过一种装置来实现,该装置的特征在于,自动和至少部分在暗场照明下操作的光学成像装置。

已认识到,依照本发明,经过早期可靠的覆盖质量检查,会在常规实验室操作中出现的、由于有缺陷地覆盖试样而引起的大量问题能够至少被减轻。关于试样是否是有缺陷地被覆盖的早期检查,和优选地关于检测出的缺陷的种类的辨别,使随后的实验室过程、特别是显微镜检验可以在很大程度上与缺陷地覆盖的试样无关。例如通过重新覆盖,还创造了同时消除所识别的覆盖缺陷的可能性。

在本发明的一个特定实施例中,进行关于在盖上盖玻片操作后盖玻片是否破损的检查,特别是关于在覆盖操作后盖玻片是否存在裂痕的检查。作为选择地或者另外地,可规定进行在覆盖介质中是否存在包含气体和/或在盖玻片和试样之间是否存在气体包容物的检查。作为选择地或者另外地,还可规定进行是否存在盖玻片表面不规则的检查。

为了实施前面提到的检查,可生成盖玻片和/或覆盖介质中有利地至少一个、优选是显微的图像。可特别地规定生成灰度图像作为图像。盖玻片和/或嵌入介质的图像的生成使得特别在生成数字图像数据时可就是否存在覆盖缺陷和/或其特性作出自动的、例如计算机控制的分析。在此可以特别规定,将已知的覆盖缺陷和/或特定地频繁出现的覆盖缺陷的图像模式存储在存储器里,并与所生成图像的图像细节进行比较。

盖玻片和/或嵌入介质被适当地照亮以生成图像,在此情况下可特别地规定在明场照明下生成图像。已发现特别有利的是,首先在明场照明下生成第一图像,以对成像的物体进行分类,并选择性地将它们与参考模式进行比较。

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