[实用新型]一种掩膜板和掩膜板系统有效
申请号: | 201220006968.1 | 申请日: | 2012-01-09 |
公开(公告)号: | CN202548530U | 公开(公告)日: | 2012-11-21 |
发明(设计)人: | 李文波;王刚 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G03F7/20;G02F1/1335;G02F1/133;G02F1/1343 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 掩膜板 系统 | ||
1.一种掩膜板,其特征在于,包括:
图案显示屏,用于呈现掩膜图案;
控制单元,用于根据光刻工艺中所需的掩膜图案的灰阶信息控制所述图案显示屏在不同区域的光透过量,以呈现所述掩膜图案。
2.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,还包括:存储单元,用于存储光刻工艺中所需的掩膜图案的灰阶信息。
3.根据权利要求1或2所述的掩膜板,其特征在于,所述图案显示屏包括:两个透明基板,分别设置在所述两个透明基板外侧的偏振片,以及所述两个透明基板之间的多个像素单元;
每个像素单元包括液晶,以及驱动液晶旋转的第一电极和第二电极。
4.根据权利要求1或2所述的掩膜板,其特征在于,所述图案显示屏包括:两个透明基板,设置在其中一个透明基板外侧或内侧的偏振片,以及所述两个透明基板之间的多个像素单元;
每个像素单元包括液晶,二色向染料,以及驱动液晶旋转的第一电极和第二电极;
其中,所述偏振片的偏振化方向与所述二色向染料所能够吸收的线偏振光分量方向一致。
5.根据权利要求1或2所述的掩膜板,其特征在于,所述图案显示屏包括:两个透明基板,设置在其中一个透明基板外侧或内侧的右旋圆偏振片,以及所述两个透明基板之间的多个像素单元;
每个像素单元包括液晶,以及驱动液晶旋转的第一电极和第二电极;
其中,所述液晶为胆甾液晶。
6.根据权利要求1或2所述的掩膜板,其特征在于,所述图案显示屏包括:两个透明基板,以及所述两个透明基板之间的多个像素单元;
每个像素单元包括一个密闭腔,所述密闭腔的上下两个面上分别设置有上电极、下电极,所述密闭腔的左右两个面上分别设置有左电极、右电极,上述四个电极两两之间无电连接且均为透明电极;所述密闭腔充满含有黑色和透明显示转换的电致变色粒子或电泳粒子的透明无色溶剂。
7.一种掩膜板系统,其特征在于,包括曝光机、掩膜板;其中,所述掩膜板为权利要求1~6任一项权利要求所述的掩膜板,所述曝光 机提供紫外光。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备