[实用新型]镀膜基板及镀膜设备有效
| 申请号： | 201220040591.1 | 申请日： | 2012-02-08 |
| 公开（公告）号： | CN202423273U | 公开（公告）日： | 2012-09-05 |
| 发明（设计）人： | 张尚明 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L23/544 | 分类号： | H01L23/544;H01L21/67;C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 韩国胜;王莹 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 镀膜 设备 | ||
【权利要求书】：
1.一种镀膜基板，在基板上覆盖有膜层，其特征在于，所述膜层的边缘截面呈斜坡形，斜坡的长度大于800μm。
2.如权利要求1所述的镀膜基板，其特征在于，所述斜坡的长度大于等于1400μm。
3.制作如权利要求1或2所述镀膜基板的镀膜设备，包括靶材和基板夹具，所述基板夹具位于靶材的下方，所述基板夹具包括上夹板和下托板，其特征在于，所述上夹板和下托板之间有压力调节装置，用于调节上夹板和下托板夹紧基板的压力。
4.如权利要求3所述的镀膜设备，其特征在于，所述压力调节装置为安装在上夹板和下托板之间的压缩弹簧。
5.如权利要求3所述的镀膜设备，其特征在于，所述上夹板中央开口的边缘截面为向外突出的弧形。
6.如权利要求3所述的镀膜设备，其特征在于，所述上夹板中央开口的边缘截面为向内侧倾斜的斜面。
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