[实用新型]镀膜基板及镀膜设备

说明书

技术领域

本实用新型属于显示技术领域，特别是涉及便于基板边缘识别的镀膜基板及镀膜设备。

背景技术

随着社会进步及科技发展，薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)已经成为当今时代显示领域的主流产品，在工业生产、日常生活中起到了至关重要的作用，越来越受到人们的青睐。

现有的TFT-LCD生产工艺中，有各种光学边缘检测设备或探测器来探测TFT玻璃基板(Glass)边缘，在产线中这些设备或探测器都是固定的，但玻璃基板边缘的物理条件随着附着在其上面的膜层(Film)的变化而变化，进而可能导致个别边缘探测系统在特定情形下失效，也就是无法识别膜层边缘(Film Edge)和玻璃基板边缘(Glass Edge)。

光学边缘探测识别往往都是基于光亮度梯度的变化来判断是否有边缘存在(参考中国专利：02152223.5)。对于特定的光学边缘探测设备，总有自己对应的边缘识别算法，无论何种算法都有自己的适用范围，在其适用范围之外的个别特殊边缘就有可能被误识别。

例如阵列基板的打标机(TNT 185F Toray Engineering Co.Ltd.Japan)在识别玻璃基板上镀的32寸栅极(Gate)膜时就出现玻璃基板边缘识别错误的现象。其原因就是镀膜设备上夹板2的边缘为直角结构，上夹板2夹紧玻璃基板4镀膜后，由于靶材材料向上夹板2和玻璃基板4之间间隙的扩散，膜层5的边缘会形成斜坡形结构(如图1、图2所示)，通常膜层边缘6斜坡的倾角α在60度至80度之间，与基板边缘9的90度直角接近。进行边缘探测时探测到的镀膜基板边缘的灰度变化如图2所示，膜层边缘6处的亮度梯度与基板边缘9处的亮度梯度接近(即图2中II的灰度变化率接近于I的灰度变化率)，打标机有可能根据膜层边缘6处的灰度变化，将膜层边缘6识别为基板边缘。

在光学边缘探测设备一定，同时物体边缘条件在一定范围内可变(膜层边缘条件无特殊要求，例如其坡度可以调整)的前提下，我们可以换种思路，尝试从工艺上改变物体边缘条件，来适应光学边缘探测器，使其边缘识别达到最佳。

实用新型内容

(一)要解决的技术问题

本实用新型要解决的技术问题是：改变玻璃基板上膜层的边缘条件，提高其与玻璃基板边缘的光亮度梯度差异，提高玻璃基板边缘识别率。

(二)技术方案

为了解决上述技术问题，本实用新型提供一种镀膜基板，在基板上覆盖有膜层，膜层的边缘截面呈斜坡形，斜坡的长度大于800μm。

优选地，所述斜坡的长度大于等于1400μm。

本实用新型还提供了一种制作上述镀膜基板的镀膜设备，该镀膜设备包括靶材和基板夹具，所述基板夹具位于靶材的下方，所述基板夹具包括上夹板和下托板，所述上夹板和下托板之间有压力调节装置，用于调节上夹板和下托板夹紧基板的压力。

其中，压力调节装置为安装在上夹板和下托板之间的压缩弹簧。

其中，上夹板中央开口的边缘截面为向外突出的弧形。

其中，上夹板中央开口的边缘截面为向内侧倾斜的斜面。

(三)有益效果

上述技术方案具有如下优点：本实用新型镀膜设备制作的镀膜基板降低了膜层边缘的厚度梯度，使透过膜层边缘的光亮度梯度发生显著变化，区别于基板边缘透过的光亮度梯度，进而提高了基板边缘识别率。

附图说明

图1是现有技术中镀膜装置结构示意图；

图2是现有技术镀膜基板边缘探测时的灰度图；

图3是本实用新型实施例一中镀膜装置结构示意图；

图4是本实用新型实施例一中镀膜基板边缘探测时的灰度图；

图5是本实用新型实施例二中镀膜装置上夹板边缘结构示意图。

其中，1：靶材；2：上夹板；3：下托板；4：玻璃基板；5：膜层；6：膜层边缘；7：压力调节装置；8：上夹板边缘；9：基板边缘。

具体实施方式

下面结合附图和实施例，对本实用新型的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本实用新型，但不用来限制本实用新型的范围。

实施例一

本实施例中的镀膜设备如图3所示。靶材1的下方装有基板夹具，玻璃基板4夹在基板夹具的上夹板2和下托板3之间。上夹板边缘8截面为椭圆弧形。上夹板2和下托板3之间设有压力调节装置7，该压力调节装置由弹性材料制成，例如可采用压缩弹簧，用于控制上夹板2和下托板3夹紧基板的压力。