[实用新型]多层结构的钕铁硼永磁材料有效
| 申请号： | 201220058786.9 | 申请日： | 2012-02-22 |
| 公开（公告）号： | CN202473461U | 公开（公告）日： | 2012-10-03 |
| 发明（设计）人： | 孙宝玉;崔振华;裴文利;惠鑫;刘振刚 | 申请（专利权）人： | 沈阳中北通磁科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01F1/057 | 分类号： | H01F1/057;C23C28/02 |
| 代理公司： | 沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21234 | 代理人： | 俞鲁江 |
| 地址： | 110179 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 多层 结构 钕铁硼 永磁 材料 | ||
【权利要求书】：
1.多层结构的钕铁硼永磁材料，其特征在于，钕铁硼永磁材料表面的镀层由里往外依次为，电镀镍层、化学镀镍层、电镀铜层、电镀半光亮镍层和电镀光亮镍层。
2.根据权利要求1所述的多层结构的钕铁硼永磁材料，其特征在于，镀层总厚度为15~30μm。
3.根据权利要求2所述的多层结构的钕铁硼永磁材料，其特征在于，镀层中的化学镀镍层厚度为2~10μm。
4.根据权利要求2所述的多层结构的钕铁硼永磁材料，其特征在于，镀层中的电镀镍层厚度为3~5μm。
5.根据权利要求2所述的多层结构的钕铁硼永磁材料，其特征在于，镀层中的电镀铜层厚度为3~6μm。
6.根据权利要求2所述的多层结构的钕铁硼永磁材料，其特征在于，镀层中的电镀半光亮镍层厚度为3~7μm。
7.根据权利要求2所述的多层结构的钕铁硼永磁材料，其特征在于，镀层中的电镀光亮镍层厚度为3~7μm。
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