[实用新型]多层结构的钕铁硼永磁材料

说明书

技术领域：

本实用新型属于钕铁硼永磁材料，更具体地说，是涉及一种多层结构的钕铁硼永磁材料。 

背景技术：

稀土钕铁硼永磁材料具有优异的磁学性能，越来越广泛地被应用于高新技术和新兴产业，是节能环保和绿色能源的重要功能材料。近年来，随着技术的发展，钕铁硼的磁性能也在不断提高，高磁能积，高矫顽力，高使用温度及低成本一直是研究机构和制造商们追求的方向，新的产品往往通过调整材料配方和制造工艺来获得，配方的改进大多要添加各种其它的元素，这对材料防腐则是很不利的，虽然有些添加的元素可改善材料的抗蚀性，如少量Co元素等，但就多数元素而言是有损于抗蚀性提高的，在自然界中稀土元素在矿床中往往是共生的，要分离提纯单一的钕元素是比较麻烦的，而生产某些混合稀土原料，如镨钕合金，则在不影响磁性能的前提下，可获得成本较低的钕铁硼材料，但这些都给钕铁硼的防腐工作提出了更高的要求。而当磁体表面晶界被腐蚀后就会造成钕铁硼磁体表面存在孔隙，而电镀镍层本身就存在微观孔隙(无孔隙存在就要达到很高的镍层厚度，而镍又是导磁材料，过厚的镍镀层又会降低材料本身的磁性能)，正是由 于电镀镍层微观孔隙的存在导致磁体耐蚀性的降低，这将直接影响钕铁硼永磁材料的使用环境和寿命。 

实用新型内容：

本实用新型就是针对上述问题，提供了一种耐蚀效果好、持续时间长的多层结构的钕铁硼永磁材料。 

为了实现本实用新型的上述目的，本实用新型采用如下技术方案，钕铁硼永磁材料表面的镀层由里往外依次为，电镀镍层、化学镀镍层、电镀铜层、电镀半光亮镍层和电镀光亮镍层。 

镀层总厚度为15～30μm。 

镀层中的化学镀镍层厚度为2～10μm。 

镀层中的电镀镍层厚度为3～5μm。 

镀层中的电镀铜层厚度为3～6μm。 

镀层中的电镀半光亮镍层厚度为3～7μm。 

镀层中的电镀光亮镍层厚度为3～7μm。 

加工时，其在钕铁硼永磁体表面依次进行电镀镍、化学镀镍、电镀铜、电镀半光亮镍和电镀光亮镍。 

具体的工艺过程为， 

(1)前处理 

首先，对钕铁硼永磁体进行倒角、除油、酸洗和活化； 

(2)电镀镍 

接着，将经过前处理的钕铁硼永磁体置于镀镍溶液中，在温度为48～52℃，pH＝4.2～4.6的条件下进行电镀镍，电流密度为0.8～1A/dm²， 电镀时间为30～60min； 

镀镍溶液的组成为，NiSO₄·6H₂O 220～250g/L；NiCL₂ 35～40g/L；H₃BO₃ 40～45g/L，溶剂为水； 

(3)化学镀镍 

将步骤(2)得到的钕铁硼永磁体置于化学镀镍溶液中，在温度为65～75℃，pH＝4.8～5.0的条件下进行化学镀镍； 

化学镀镍溶液的组成为，NiSO₄·6H₂O 18～23g/L；NaC₂H₃O₂·3H₂O14～15g/L；Na₃C₆H₅O₇·2H₂O 9～10g/L；CuSO₄·5H₂O 0.01～0.03g/L；NaH₂PO₂·H₂O 20～25g/L；C₄H₆O₅10～20g/L，溶剂为水； 

(4)电镀铜 

然后，将化学镀镍后的钕铁硼永磁体置于镀铜溶液中，在温度为44～46℃，pH＝8.0～8.5的条件下进行电镀铜，电流密度为0.6～0.8A/dm²，电镀时间为30～60min； 

镀铜溶液的组成为，K₄P₂O₇270～300g/L；Cu₂P₂O₇40～60g/L，溶剂为水； 

(5)电镀半光亮镍层