[实用新型]半蚀刻网格框

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种真空荧光显示屏中的栅极器件，特别是涉及一种金属网格框。

背景技术

真空荧光显示屏(VFD)是从真空电子管发展而来的显示器件，由发射电子的阴极、加速控制电子流的栅极、玻璃基板上印上的电极和荧光粉的阳极即栅网和玻盖构成，这种显示器件利用电子撞击荧光粉，使荧光粉发光，是一种自身发光显示器件，由于它可以做多色彩显示，亮度高，又可以用低电压来驱动，易于与集成电路配套，广泛应用于家用电器、办公自动化设备、工业仪器仪表及汽车等各种领域中。其中的栅极，通常是将金属薄板通过光蚀刻后形成的金属网格框状部件。一般的加工方法中，只将该金属薄板上蚀刻出多个通孔以形成金属网格框部件，这样的金属网格的厚度即为该金属薄板的原始厚度，这样虽然加工简单，但是金属网格框作为栅极的性能并不是很好。

发明内容

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种网格厚度较薄的半蚀刻网格框。

本实用新型解决上述技术问题所采用的技术方案为：一种半蚀刻网格框，包括金属基板以及位于金属基板上的多个通孔，所述通孔的周边形成网格框，其特征在于：所述通孔通过光蚀刻加工贯穿整个金属基板，所述网格框通过半蚀刻加工，厚度小于金属基板的原厚度。

优选地，该金属基板的厚度为0.15mm，网格框的厚度为0.07mm～0.11mm。

与现有技术相比，本实用新型的优点在于这样的半蚀刻金属网格框，不但加工方便，易于量产，而且网格框的厚度较小，导电性较好，使使用该金属网格框的真空荧光显示屏的性能也得到增强。

附图说明

图1为本实用新型半蚀刻网格框的示意图。

具体实施方式

以下结合附图实施例对本实用新型作进一步详细描述。

如图1所示，该半蚀刻网格框包括金属基板1，以及位于金属基板1上的多个通孔2，通孔2的周边即为网格框3。

在基板上直接加工出通孔2，通孔2的周边相互连接以形成网格框3，一般的网格框加工工艺中该网格框3的厚度即为金属基板1的厚度，而本实用新型中的网格框3通过半蚀刻工艺形成，即在金属基板1上蚀刻出通孔2的同时，也对通孔2的周边的网格框3进行蚀刻，通孔2为全蚀刻部分，网格框3为半蚀刻部分，在蚀刻时保留一定厚度的基板1的材料。即该网格框3的厚度小于基板1的原厚度。

加工时，该通孔2和网格框3的位置分别使用不同的掩膜片，对通孔2的部分进行全蚀刻加工，对网格框3的部分进行半蚀刻加工，保留一部分基板1的厚度。

优选地，该金属基板1的厚度为0.15mm，网格框3的厚度为0.07mm～0.11mm。通孔2为正六边形，其边长为0.25mm，网格框3的线宽为0.02mm-0.05mm。

这样的半蚀刻金属网格框，不但加工方便，易于量产，而且网格框的厚度较小，导电性较好，使使用该金属网格框的真空荧光显示屏的性能也得到增强。