[实用新型]活动旋转研磨头的定位结构有效
申请号: | 201220088518.1 | 申请日: | 2012-03-09 |
公开(公告)号: | CN202592205U | 公开(公告)日: | 2012-12-12 |
发明(设计)人: | 林淑芬 | 申请(专利权)人: | 林淑芬 |
主分类号: | B24B37/34 | 分类号: | B24B37/34 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 丁纪铁 |
地址: | 中国台湾台南市健*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 活动 旋转 研磨 定位 结构 | ||
1.一种活动旋转研磨头的定位结构,其特征是,包含:
一滑座,具有一枢槽;
一固定环,固设于所述滑座,并具有一贴靠所述枢槽槽壁面的环凸缘;
一旋转座,可转动或不转动地设于所述固定环,并具有一穿置所述固定环的枢转部;
一转轮,锁设于所述旋转座的枢转部,并具有一环凸部,所述环凸部与环凸缘及所述枢槽槽壁面围设有一液压空间,且所述液压空间具有一接设液压源的流道;
一设有研磨头的加工主轴,设于所述旋转座上。
2.依据权利要求1所述活动旋转研磨头的定位结构,其特征是:所述固定环的环凸缘具有一面向所述枢槽槽底面的环端面,所述转轮的环凸部具有一贴靠所述环凸缘环端面的环抵面、一贴靠所述枢槽槽壁面的环侧面、及一环缺口,所述环缺口具有一面向所述环凸缘环端面的第一环面及一面向所述枢槽槽壁面的第二环面,且所述第一、二环面与所述环凸缘环端面及所述枢槽槽壁面围设出所述液压空间。
3.依据权利要求1或2所述活动旋转研磨头的定位结构,其特征是:所述流道设于所述滑座上。
4.依据权利要求1所述活动旋转研磨头的定位结构,其特征是:所述旋转座的枢转部与所述固定环的环凸缘之间设有一第一密封环,所述旋转座的枢转部与所述转轮的环凸部之间设有一第二密封环,所述固定环的环凸缘与所述滑座枢槽的槽壁面之间设有一第三密封环,所述转轮的环凸部与所述滑座枢槽的槽壁面之间设有一第四密封环。
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