[实用新型]活动旋转研磨头的定位结构有效

专利信息
申请号: 201220088518.1 申请日: 2012-03-09
公开(公告)号: CN202592205U 公开(公告)日: 2012-12-12
发明(设计)人: 林淑芬 申请(专利权)人: 林淑芬
主分类号: B24B37/34 分类号: B24B37/34
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 丁纪铁
地址: 中国台湾台南市健*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 活动 旋转 研磨 定位 结构
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及磨床的研磨头,特别是涉及一种活动旋转研磨头的定位构造。

背景技术

现有磨床进行长形规格工件研磨加工作业时,通常藉由单一加工主轴的研磨头对待研磨工件的其中一侧面先进行第一次研磨,随后再将该待研模工件换向进行第二侧面的研磨作业,然而,由于该研磨头设于该加工主轴上,且该加工主轴组设于磨床的滑座后仅能进行前后及左右两轴向的位移,因此,该研磨头所能研磨的角度则受限,无法因应表面较为复杂的待研磨工件。

为此,本案创作人研发出一种研磨头可活动旋转的磨床来解决上述缺陷,其主要透过一旋转座可旋转调整地枢设于该滑座上,供该研磨头设置的加工主轴再设于该旋转座上,藉由该旋转座依需求而旋转调整,以改变该研磨头的研磨角度,然而,该旋转座在旋转调整后,如何与该滑座相互定位即是本案创作的动机。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种活动旋转研磨头的定位构造,其主要透过液压设计,使供研磨头设置的旋转座得以立即与磨床的滑座相互定位。

为解决上述技术问题,依据本实用新型所提供的一种活动旋转研磨头的定位结构,包含:一滑座,具有一枢槽;一固定环,固设于所述滑座,并具有一贴靠所述枢槽槽壁面的环凸缘;一旋转座,可转动或不转动地设于所述固定环,并具有一穿置所述固定环的枢转部;一转轮,锁设于所述旋转座的枢转部,并具有一环凸部,所述环凸部与环凸缘及所述枢槽槽壁面围设有一液压空间,且所述液压空间具有一接设液压源的流道;一设有研磨头的加工主轴,设于所述旋转座上。

较佳地,所述固定环的环凸缘具有一面向所述枢槽槽底面的环端面,所述转轮的环凸部具有一贴靠所述环凸缘环端面的环抵面、一贴靠所述枢槽槽壁面的环侧面、及一环缺口,所述环缺口具有一面向所述环凸缘环端面的第一环面及一面向所述枢槽槽壁面的第二环面,且所述第一、二环面与所述环凸缘环端面及所述枢槽槽壁面围设出所述液压空间。

较佳地,所述流道设于所述滑座上。

较佳地,所述旋转座的枢转部与所述固定环的环凸缘之间设有一第一密封环,所述旋转座的枢转部与所述转轮的环凸部之间设有一第二密封环,所述固定环的环凸缘与所述滑座枢槽的槽壁面之间设有一第三密封环,所述转轮的环凸部与所述滑座枢槽的槽壁面之间设有一第四密封环。

本实用新型要解决活动旋转研磨头的定位构造透过液压设计,使供研磨头设置的旋转座得以立即与磨床的滑座相互定位。

附图说明

下面结合附图与具体实施方式对本发明作进一步详细的说明:

图1是本实用新型的正视图。

图2是本实用新型的局部剖面侧视图。

图3是图2的局部放大图。

图4是本实用新型的局部剖面上视图。

图5是图4的局部放大图。

图6是本实用新型的正视图,显示旋转座旋转一角度的状态。

附图标记说明

10是滑座           11是枢槽

111是槽壁面        112是槽底面

12是流道

20是固定环         21是环凸缘

211是环端面

30是旋转座         31是枢转部

40是转轮           41是螺丝

42是环凸部         421是环抵面

422是环侧面        43是环缺口

43是环缺口         431是第一环面

432是第二环面

51是研磨头         52是加工主轴

60是液压源

71是第一密封环     72是第二密封环

73是第三密封环    74是第四密封环

A是液压空间

具体实施方式

首先如图1至图5所述,本实用新型实施例所提供的一种活动旋转研磨头的定位结构,其主要由一滑座10、一固定环20、一旋转座30、一转轮40、及一设有研磨头51的加工主轴52所组成,其中:

滑座10,具有一枢槽11及一流道12,枢槽11具有一槽壁面111及一槽底面112,流道12由滑座10表面贯通至槽壁面111,并接设于一液压源60。

固定环20,固设于滑座10,并具有一贴靠枢槽11槽壁面111的环凸缘21,且环凸缘21具有一面向枢槽11槽底面112的环端面211。

旋转座30,可转动或不转动地设于固定环20,并具有一穿置固定环20的枢转部31。

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