[实用新型]3900纳米带通红外滤光片

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种滤光片，特别是3900纳米带通红外滤光片。

背景技术

3900纳米红外波段是大气窗口中为数不多的几乎没有吸收的波段。故3900纳米带通红外滤光片，主要用于气体测试过程中作为比较基准，以精确测量和计算所测气体的实际浓度，但是目前市场上的3900纳米带通红外滤光片往往信噪比低，精度差，不能满足市场发展的需要。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决上述现有技术的不足而提供一种峰值透过率高，能极大的提高信噪比的3900纳米带通红外滤光片。

为了实现上述目的，本实用新型所设计的3900纳米带通红外滤光片，包括以Si为原材料的基板、以Ge、SiO为镀膜材料的第一镀膜层和以Ge、SiO为镀膜材料的第二镀膜层，基板位于第一镀膜层和第二镀膜层之间，其特征是第一镀膜层包含由内到外依次排列142nm厚度的SiO层、117nm厚度的Ge层、540nm厚度的SiO层、64nm厚度的Ge层、343nm厚度的SiO层、115nm厚度的Ge层、125nm厚度的SiO层、142nm厚度的Ge层、227nm厚度的SiO层、225nm厚度的Ge层、360nm厚度的SiO层、87nm厚度的Ge层、395nm厚度的SiO层、262nm厚度的Ge层、348nm厚度的SiO层、124nm厚度的Ge层、314nm厚度的SiO层、116nm厚度的Ge层、575nm厚度的SiO层、416nm厚度的Ge层、785nm厚度的SiO层、388nm厚度的Ge层、944nm厚度的SiO层、430nm厚度的Ge层、855nm厚度的SiO层、385nm厚度的Ge层、954nm厚度的SiO层、519nm厚度的Ge层、589nm厚度的SiO层；第二镀膜层包含由内到外依次排列的547nm厚度的SiO层、236nm厚度的Ge层、2188nm厚度的SiO层、236nm厚度的Ge层、547nm厚度的SiO层、236nm厚度的Ge层、547nm厚度的SiO层、236nm厚度的Ge层、2188nm厚度的SiO层、236nm厚度的Ge层、441nm厚度的SiO层、312nm厚度的Ge层、405nm厚度的SiO层。

上述各材料对应的厚度，其允许在公差范围内变化，其变化的范围属于本专利保护的范围，为等同关系。通常厚度的公差在10nm左右。

本实用新型得到的3900纳米带通红外滤光片，能实现中心波长定位为3900±1％纳米，峰值透过率达90％以上，截止区透过率小于0.1％，大大提高了信噪比，为精确测量所需测量的气体提供了基本保证。

附图说明

图1是实施例整体结构示意图；

图2是实施例提供的红外光谱透过率实测曲线图。

图中：第一镀膜层1、基板2、第二镀膜层3。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。

实施例：

如图1所示，本实施例提供的3900纳米带通红外滤光片，包括以Si为原材料的基板2、以Ge、SiO为镀膜材料的第一镀膜层1和以Ge、SiO为镀膜材料的第二镀膜层3，基板2位于第一镀膜层1和第二镀膜层3之间，第一镀膜层1包含由内到外依次排列142nm厚度的SiO层、117nm厚度的Ge层、540nm厚度的SiO层、64nm厚度的Ge层、343nm厚度的SiO层、115nm厚度的Ge层、125nm厚度的SiO层、142nm厚度的Ge层、227nm厚度的SiO层、225nm厚度的Ge层、360nm厚度的SiO层、87nm厚度的Ge层、395nm厚度的SiO层、262nm厚度的Ge层、348nm厚度的SiO层、124nm厚度的Ge层、314nm厚度的SiO层、116nm厚度的Ge层、575nm厚度的SiO层、416nm厚度的Ge层、785nm厚度的SiO层、388nm厚度的Ge层、944nm厚度的SiO层、430nm厚度的Ge层、855nm厚度的SiO层、385nm厚度的Ge层、954nm厚度的SiO层、519nm厚度的Ge层、589nm厚度的SiO层；第二镀膜层包含由内到外依次排列的547nm厚度的SiO层、236nm厚度的Ge层、2188nm厚度的SiO层、236nm厚度的Ge层、547nm厚度的SiO层、236nm厚度的Ge层、547nm厚度的SiO层、236nm厚度的Ge层、2188nm厚度的SiO层、236nm厚度的Ge层、441nm厚度的SiO层、312nm厚度的Ge层、405nm厚度的SiO层。

如图2所示，本实施例得到的3900纳米带通红外滤光片，能实现中心波长定位为3900±1％纳米，峰值透过率达90％以上，截止区透过率小于0.1％。