[实用新型]为掩模版贴附保护膜的装置有效
| 申请号： | 201220106657.2 | 申请日： | 2012-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN202494859U | 公开（公告）日： | 2012-10-17 |
| 发明（设计）人： | 黄执祥;侯广杰 | 申请（专利权）人： | 深圳市龙图光电有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/62 | 分类号： | G03F1/62;G03F1/72 |
| 代理公司： | 深圳市中原力和专利商标事务所(普通合伙) 44289 | 代理人： | 王英鸿 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝安区*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 模版 保护膜 装置 | ||
【权利要求书】：
1. 一种为掩模版贴附保护膜的装置，其特征在于，包括：用于安装保护膜的出膜轴、用于平整扯拽保护膜并能够将其贴附到掩膜版上的贴膜辊轴、以及用于驱动出膜轴和贴膜辊轴运转的驱动装置，出膜轴和贴膜辊轴之间由保护膜连接。
2. 根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述出膜轴和贴膜辊轴为两个，分别从掩膜版上下两面贴附保护膜。
3. 根据权利要求1或者2所述的装置，其特征在于，还包括一用于回收报废保护膜的回收轴，该回收轴也由所述驱动装置驱动运转。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
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