[实用新型]为掩模版贴附保护膜的装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及掩膜版技术领域，尤其涉及一种为掩模版贴附保护膜的装置。

背景技术

掩模版photomask，也称光罩、光学掩模版，常见的掩模版有铬版（chrome mask）、干版（emulsion mask）、菲林（film mask）等，是指在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。

由于掩模版的玻璃基板或表面金属薄膜很容易被尖锐硬物质划伤，在掩膜版表面形成阻光或透光的划痕。因此，现有技术中，为防止掩膜版表面出现划痕，一般使用保鲜膜人工贴附到掩膜版正反两面，既可以防止划伤，也能够避免掩膜版表面污染。

但是，保鲜膜较薄，质地柔软，因此对于一些硬质颗粒来说，保鲜膜起不到保护作用，加之保鲜膜容易产生静电，静电会击伤掩膜版上的图形，同时手工贴膜，不易操作，且容易在保鲜膜和掩膜版之间形成气泡。

实用新型内容

为此，本实用新型所要解决的技术问题是：提供一种为掩模版贴附保护膜的装置，以克服现有技术中掩膜版贴膜产生的缺陷。

本实用新型提供了一种为掩模版贴附保护膜的装置，包括：用于安装保护膜的出膜轴、用于平整扯拽保护膜并能够将其贴附到掩膜版上的贴膜辊轴、以及用于驱动出膜轴和贴膜辊轴运转的驱动装置，出膜轴和贴膜辊轴之间由保护膜连接。

其中，所述出膜轴和贴膜辊轴为两个，分别从掩膜版上下两面贴附保护膜。

所述装置还包括：一用于回收报废保护膜的回收轴，该回收轴也由所述驱动装置驱动运转。

本实用新型所述为掩模版贴附保护膜的装置，通过设置出膜轴、贴膜辊轴、以及驱动装置，使得保护膜可以自动贴附到掩膜版上。克服了背景技术中所述手工贴附保鲜膜时不易操作且容易在保鲜膜和掩膜版之间形成气泡的弊端。又由于本实用新型所述装置贴附的是保护膜，克服了背景技术中所述贴附保鲜膜的弊端。

附图说明

图1为本实用新型实施例所述为掩模版贴附保护膜的装置结构示意图。

具体实施方式

下面，结合附图对本实用新型进行详细描述。

如图1所示，本实施例提供了一种为掩模版贴附保护膜的装置，该装置包括：用于安装保护膜的出膜轴11、用于平整扯拽保护膜并能够将其贴附到掩膜版上的贴膜辊轴12、以及用于驱动出膜轴和贴膜辊轴运转的驱动装置（图中未标示），出膜轴11和贴膜辊轴12之间由保护膜20连接。

为实现掩膜版的上下两面同时贴膜，所述出膜轴和贴膜辊轴为两个，分别从掩膜版上下两面贴附保护膜。

为实现报废保护膜的回收，本实施例所述为掩模版贴附保护膜的装置还包括一用于回收报废保护膜的回收轴13，该回收轴13也由所述驱动装置驱动运转。

本实施例所述保护膜11，其宽度为10～650mm，与其尺寸匹配的贴膜辊轴12最大贴膜宽度为650mm，用于驱动驱动装置运转的压缩空气气源的气压为0.5～7.5bar。

本实施例所述装置首次在掩膜版行业将保护膜与上述贴膜装置相结合用于掩膜版表面防护。防静电离心不但具有防静电特点，还耐磨防尘不易划伤。

本实施例所述装置由于使用机器自动贴附，避免了贴附时的气泡产生。

综上所述，本实用新型所述为掩模版贴附保护膜的装置，通过设置出膜轴、贴膜辊轴、以及驱动装置，使得保护膜可以自动贴附到掩膜版上。克服了背景技术中所述手工贴附保鲜膜时不易操作且容易在保鲜膜和掩膜版之间形成气泡的弊端。又由于本实用新型所述装置贴附的是保护膜，克服了背景技术中所述贴附保鲜膜的弊端。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。