[实用新型]一种非接触式清洗装置有效

专利信息
申请号: 201220111599.2 申请日: 2012-03-22
公开(公告)号: CN202527417U 公开(公告)日: 2012-11-14
发明(设计)人: 焦宇 申请(专利权)人: 北京京东方光电科技有限公司
主分类号: B08B7/04 分类号: B08B7/04;B08B3/02;B08B5/02;F26B21/00
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 黄志华
地址: 100176 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 接触 清洗 装置
【权利要求书】:

1.一种非接触式清洗装置,用于清洗涂布设备的喷嘴喙部,其特征在于,包括:

底座,所述底座上固定有喷针模块,所述底座内设有凹槽,用于接收清洗所述涂布设备的喷嘴喙部的残液;

至少两个喷针模块,以设定间距固定在所述底座上,所述设定间距大于待清洗喷嘴两侧的最宽距离;以及

所述喷针模块内设有至少两个存储腔,所述至少两个存储腔分别存储有用于清洗所述喷嘴的化学溶剂与气体,且

在所述喷针模块面向所述喷嘴一侧的表面上设有连接所述存储腔的多个出气孔与多个化学溶剂输出孔,所述多个出气孔与多个化学溶剂输出孔上设有导管体。

2.如权利要求1所述的非接触式清洗装置,其特征在于,所述底座上设有固定孔;

所述至少两个喷针模块通过设置于所述固定孔内的固定螺钉连接于所述底座上。

3.如权利要求2所述的非接触式清洗装置,其特征在于,所述固定孔为矩形,用于调节所述喷针模块与所述喷嘴之间的距离。

4.如权利要求1所述的非接触式清洗装置,其特征在于,所述底座上还设有移动部件,用于调节底座相对于所述喷嘴的位置。

5.如权利要求1所述的非接触式清洗装置,其特征在于,所述喷针模块内设有至少两个存储腔,分别存储有用于清洗所述喷嘴的化学溶剂与气体,每个所述存储腔均设有至少一个出口。

6.如权利要求1所述的非接触式清洗装置,其特征在于,所述底座内设有的凹槽的形状为漏斗状或V型结构,所述漏斗的上边缘或V型槽的上边缘的宽度大于喷嘴的宽度。 

7.如权利要求6所述的非接触式清洗装置,其特征在于,所述凹槽的底部设有通孔,用于排出所述残液。

8.如权利要求1所述的非接触式清洗装置,其特征在于,所述存储腔的出气孔与多个化学溶剂输出孔分别按照设定方向排列,所述设定方向为沿垂直水平面的方向,且所述出气孔的每列与所述化学溶剂输出孔的每列交替排列。

9.如权利要求1所述的非接触式清洗装置,其特征在于,所述导管体为喷针管体。

10.如权利要求9所述的非接触式清洗装置,其特征在于,所述喷针管体的针头部沿水平方向向下成一设定角度,所述设定角度为20°~45°。 

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