[实用新型]一种单镶嵌层无蜡研磨抛光模板有效
| 申请号： | 201220132210.2 | 申请日： | 2012-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN202507187U | 公开（公告）日： | 2012-10-31 |
| 发明（设计）人： | 高如山 | 申请（专利权）人： | 天津西美科技有限公司 |
| 主分类号： | B24D13/02 | 分类号： | B24D13/02 |
| 代理公司： | 天津市鼎和专利商标代理有限公司 12101 | 代理人： | 冯舜英 |
| 地址： | 300000 天*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 镶嵌 层无蜡 研磨 抛光 模板 | ||
【权利要求书】：
1.一种单镶嵌层无蜡研磨抛光模板，其特征在于：所述单镶嵌层无蜡研磨抛光模板是由四个圆柱状的层状物组成的复合结构，所述复合结构由上到下依次为：第一层是镶嵌层，所述镶嵌层上设有至少一个置片孔；第二层是上粘接层；第三层是衬底层；第四层是下粘接层。
2.按照权利要求1所述的单镶嵌层无蜡研磨抛光模板，其特征在于：所述置片孔内设有吸附垫。
3.按照权利要求1所述的单镶嵌层无蜡研磨抛光模板，其特征在于：所述置片孔的形状与待研磨抛光材料的外形相匹配。
4.按照权利要求3所述的单镶嵌层无蜡研磨抛光模板，其特征在于：所述置片孔为圆形孔。
5.按照权利要求3所述的单镶嵌层无蜡研磨抛光模板，其特征在于：所述置片孔为矩形孔。
6.按照权利要求1所述的单镶嵌层无蜡研磨抛光模板，其特征在于：所述单镶嵌层无蜡研磨抛光模板的材质为金属板。
7.按照权利要求1所述的单镶嵌层无蜡研磨抛光模板，其特征在于：所述单镶嵌层无蜡研磨抛光模板的材质为陶瓷板。
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