[实用新型]半导体封装结构有效

专利信息
申请号: 201220135641.4 申请日: 2012-03-31
公开(公告)号: CN202495441U 公开(公告)日: 2012-10-17
发明(设计)人: 王之奇;喻琼;俞国庆;王蔚 申请(专利权)人: 苏州晶方半导体科技股份有限公司
主分类号: H01L23/488 分类号: H01L23/488
代理公司: 苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 代理人: 杨林洁
地址: 215000 江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 封装 结构
【说明书】:

技术领域

本实用新型属于半导体制造领域技术,尤其涉及一种半导体封装结构。

背景技术

随着半导体技术的不断发展,单个芯片的功能越来越强大,但对芯片的尺寸要求越来越小,单位面积的I/O数量也相应得越来越多,转接板的出现解决了这一问题。

现有技术中,通常是通过硅通孔技术在转接板上形成通孔,并在转接板的正面重布线电路,背面重布线电路,并制作与PCB板焊垫尺寸相匹配凸点,以解决与PCB不兼容问题。

但是,现有的这种转接板封装技术中,由于转接板的通孔工艺难度,导致转接板不能过厚,为了保证其性能,通常采用临时压合(Temporary bonding)工艺将转接板和一临时基板压合在一起,再进行接下来的制程,等封装完成后再将转接板上的临时基板进行剥离,工艺较复杂且成本较高。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种半导体封装结构,其通过在转接板上设置可容纳芯片的收容空间,降低了转接板封装的工艺难度。

为实现上述实用新型目的,本实用新型提供一种半导体封装结构,所述封装结构包括:

芯片,其上设置有多个金属凸点;

转接板,所述转接板上表面凹陷有收容空间,所述芯片收容于所述收容空间内;

多个通孔,贯穿所述转接板与所述收容空间连通,所述通孔内设置有导电介质,所述导电介质电性连接设置于转接板下表面的再分布电路,所述再分布电路上设有多个焊接凸点;

其中,所述金属凸点与所述导电介质电性连接,所述多个焊接凸点的节距大于所述多个金属凸点的节距。

作为本实用新型的进一步改进,所述封装结构还包括设置于所述通孔内壁上的第一绝缘层。

作为本实用新型的进一步改进,所述封装结构还包括设置于所述转接板下表面的第二绝缘层,所述再分布电路设置于所述第二绝缘层上。

作为本实用新型的进一步改进,所述封装结构还包括设置于所述再分布电路上的防焊层,所述防焊层开设有部分暴露所述再分布电路的开口,所述焊接凸点通过所述开口与所述再分布电路电性连接。

作为本实用新型的进一步改进,所述金属凸点的位置与所述通孔的位置相匹配。

作为本实用新型的进一步改进,所述导电介质为填充于所述通孔内的金属材料。

与现有技术相比,本实用新型通过在转接板上设置可容纳芯片的收容空间,降低了转接板封装的工艺难度,进而降低了生产成本。

附图说明

图1是本实用新型一实施方式半导体封装结构的结构示意图;

图2是本实用新型一实施方式的半导体封装方法的流程图。

具体实施方式

以下将结合附图所示的具体实施方式对本实用新型进行详细描述。但这些实施方式并不限制本实用新型,本领域的普通技术人员根据这些实施方式所做出的结构、方法、或功能上的变换均包含在本实用新型的保护范围内。

参图1,介绍本实用新型的半导体封装结构的一实施方式。该封装结构包括芯片20、转接板10。这里所说的“芯片20”可以包括无源器件、集成电路芯片等。

转接板10具有上表面100a以及与上表面100a相背的下表面100b,该转接板10的上表面100a凹陷有收容空间11,芯片20设置于收容空间11内。在所述转接板10上还设有多个通孔,该通孔贯穿该转接板10并与收容空间11连通,所述通孔内设置有导电介质12。

在本实施方式中,收容空间11的截面呈矩形状。在其它替换的实施方式中,该收容空间11的截面也可以呈梯形状。也就是说,这里所说的收容空间11可以包括一个、两个乃至更多个互相连通的收容空间,这样,本实用新型提供的半导体封装结构可以封装不止一个的芯片,以满足多个芯片集成的封装需求。相对于不设置收容空间11的转接板封装,本实用新型提供的这种封装结构体积更小,更加适应未来轻薄化的封装需求,且封装完成的芯片20不易受到外界环境的影响,可以提高封装的良率。

所述芯片20的一面上设置有多个金属凸点21,该多个金属凸点21分别电性连接于所述芯片20的多个焊垫上,其通过该金属凸点21与导电介质12电性连接,并且,作为优选的实施方式,收容空间11内还填充有绝缘介质。这样做的好处是:可以进一步加强芯片20与转接板10的固定,并且减小外界环境对芯片20的影响,提高封装品质。该绝缘介质的形成材料为光刻胶或树脂胶。

在本实施方式中,该半导体封装结构还包括第一绝缘层131和第二绝缘层132。其中,第一绝缘层131形成于通孔的内壁上;第二绝缘层132形成于转接板10的下表面100b。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州晶方半导体科技股份有限公司,未经苏州晶方半导体科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201220135641.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top