[实用新型]半导体封装结构有效
申请号: | 201220135641.4 | 申请日: | 2012-03-31 |
公开(公告)号: | CN202495441U | 公开(公告)日: | 2012-10-17 |
发明(设计)人: | 王之奇;喻琼;俞国庆;王蔚 | 申请(专利权)人: | 苏州晶方半导体科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/488 | 分类号: | H01L23/488 |
代理公司: | 苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 | 代理人: | 杨林洁 |
地址: | 215000 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 封装 结构 | ||
技术领域
本实用新型属于半导体制造领域技术,尤其涉及一种半导体封装结构。
背景技术
随着半导体技术的不断发展,单个芯片的功能越来越强大,但对芯片的尺寸要求越来越小,单位面积的I/O数量也相应得越来越多,转接板的出现解决了这一问题。
现有技术中,通常是通过硅通孔技术在转接板上形成通孔,并在转接板的正面重布线电路,背面重布线电路,并制作与PCB板焊垫尺寸相匹配凸点,以解决与PCB不兼容问题。
但是,现有的这种转接板封装技术中,由于转接板的通孔工艺难度,导致转接板不能过厚,为了保证其性能,通常采用临时压合(Temporary bonding)工艺将转接板和一临时基板压合在一起,再进行接下来的制程,等封装完成后再将转接板上的临时基板进行剥离,工艺较复杂且成本较高。
发明内容
本实用新型的目的在于提供一种半导体封装结构,其通过在转接板上设置可容纳芯片的收容空间,降低了转接板封装的工艺难度。
为实现上述实用新型目的,本实用新型提供一种半导体封装结构,所述封装结构包括:
芯片,其上设置有多个金属凸点;
转接板,所述转接板上表面凹陷有收容空间,所述芯片收容于所述收容空间内;
多个通孔,贯穿所述转接板与所述收容空间连通,所述通孔内设置有导电介质,所述导电介质电性连接设置于转接板下表面的再分布电路,所述再分布电路上设有多个焊接凸点;
其中,所述金属凸点与所述导电介质电性连接,所述多个焊接凸点的节距大于所述多个金属凸点的节距。
作为本实用新型的进一步改进,所述封装结构还包括设置于所述通孔内壁上的第一绝缘层。
作为本实用新型的进一步改进,所述封装结构还包括设置于所述转接板下表面的第二绝缘层,所述再分布电路设置于所述第二绝缘层上。
作为本实用新型的进一步改进,所述封装结构还包括设置于所述再分布电路上的防焊层,所述防焊层开设有部分暴露所述再分布电路的开口,所述焊接凸点通过所述开口与所述再分布电路电性连接。
作为本实用新型的进一步改进,所述金属凸点的位置与所述通孔的位置相匹配。
作为本实用新型的进一步改进,所述导电介质为填充于所述通孔内的金属材料。
与现有技术相比,本实用新型通过在转接板上设置可容纳芯片的收容空间,降低了转接板封装的工艺难度,进而降低了生产成本。
附图说明
图1是本实用新型一实施方式半导体封装结构的结构示意图;
图2是本实用新型一实施方式的半导体封装方法的流程图。
具体实施方式
以下将结合附图所示的具体实施方式对本实用新型进行详细描述。但这些实施方式并不限制本实用新型,本领域的普通技术人员根据这些实施方式所做出的结构、方法、或功能上的变换均包含在本实用新型的保护范围内。
参图1,介绍本实用新型的半导体封装结构的一实施方式。该封装结构包括芯片20、转接板10。这里所说的“芯片20”可以包括无源器件、集成电路芯片等。
转接板10具有上表面100a以及与上表面100a相背的下表面100b,该转接板10的上表面100a凹陷有收容空间11,芯片20设置于收容空间11内。在所述转接板10上还设有多个通孔,该通孔贯穿该转接板10并与收容空间11连通,所述通孔内设置有导电介质12。
在本实施方式中,收容空间11的截面呈矩形状。在其它替换的实施方式中,该收容空间11的截面也可以呈梯形状。也就是说,这里所说的收容空间11可以包括一个、两个乃至更多个互相连通的收容空间,这样,本实用新型提供的半导体封装结构可以封装不止一个的芯片,以满足多个芯片集成的封装需求。相对于不设置收容空间11的转接板封装,本实用新型提供的这种封装结构体积更小,更加适应未来轻薄化的封装需求,且封装完成的芯片20不易受到外界环境的影响,可以提高封装的良率。
所述芯片20的一面上设置有多个金属凸点21,该多个金属凸点21分别电性连接于所述芯片20的多个焊垫上,其通过该金属凸点21与导电介质12电性连接,并且,作为优选的实施方式,收容空间11内还填充有绝缘介质。这样做的好处是:可以进一步加强芯片20与转接板10的固定,并且减小外界环境对芯片20的影响,提高封装品质。该绝缘介质的形成材料为光刻胶或树脂胶。
在本实施方式中,该半导体封装结构还包括第一绝缘层131和第二绝缘层132。其中,第一绝缘层131形成于通孔的内壁上;第二绝缘层132形成于转接板10的下表面100b。
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