[实用新型]一种闪耀光栅沟槽微结构变异的测试系统有效
申请号: | 201220152170.8 | 申请日: | 2012-04-12 |
公开(公告)号: | CN202735063U | 公开(公告)日: | 2013-02-13 |
发明(设计)人: | 邹建兵;刘宏欣;陈志超;刘华;袁海骥 | 申请(专利权)人: | 科纳技术(苏州)有限公司 |
主分类号: | G01M11/00 | 分类号: | G01M11/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 215121 江苏省苏州市工业园*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 闪耀 光栅 沟槽 微结构 变异 测试 系统 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种衍射光栅微结构的测试系统,尤其是指一种闪耀光栅沟槽微结构变异的测试系统。本实用新型可以准确地测试出闪耀光栅沟槽微结构的变异区域和变异程度,能够广泛适用于要求检测多针连接器电学性能的各个领域,尤其是适用于大型企业和科研机构对闪耀光栅的沟槽微结构变异情况进行测试,成本低、速度快。
背景技术
近年来,一系列新型光栅的出现对科学技术的发展和工业生产技术的革新发挥着越来越大的作用。把光栅做在光纤里面,产生了光纤光栅,促进了光纤通信产业的发展;光栅和波导的结合,产生了阵列波导光栅,是非常重要的光纤通信的波分复用器件。光栅推动了科学技术的发展,世界上对光栅的需求越来越大。
传统光栅有很大的缺点,主要是衍射图样中没有色散的零级主最大总是占光能量的很大一部分,其余光能分散在各级光谱中,而实际使用光栅时往往只利用它的某一级。这对光栅的应用是很不利的。闪耀光栅的出现则改善了这一缺点。闪耀光栅实现了单缝衍射中央最大值的位置从没有色散的零级光谱转移到其他有色散的光谱级上。因此,闪耀光栅的用途也越来越广泛。光栅单色仪多利用闪耀光栅作为分光原件;闪耀光栅在光通信领域也得到了广泛应用,如用于光信号解调、光交叉连接、光分插复用等。
而闪耀光栅沟槽微结构的完整及保真度是决定其分光能力和衍射效率的至关重要的因素。传统方法测试闪耀光栅沟槽微结构变异多使用SEM、LSCM等昂贵的测试设备,具有测试范围小、测试速度慢和无法实现自动化等缺点。
发明内容
为了实现对闪耀光栅沟槽微结构的完整及保真度的低成本、宽范围、高速度和自动化测试,本实用新型提出了一种闪耀光栅沟槽微结构变异的测试系统。该测试系统可以准确地测试出闪耀光栅沟槽微结构的变异区域和变异程度,能够广泛适用于大型企业和科研机构对闪耀光栅的沟槽微结构变异情况进行测试。
本实用新型所采用的技术方案为:
首先从光源模块发出的垂直于闪耀光栅沟槽方向的多波长线偏振光以特定的入射角射入闪耀光栅,闪耀光栅按照设计的衍射级数产生衍射光,将多波长的衍射光入射到梳妆滤波器,调整梳妆滤波器,滤出不同的波长,对应闪耀光栅不同的区域,再用光谱仪接收不同的波长,分析波形失真情况;用Labview编写的软件对光谱仪接收到的波形进行数据分析,判断闪耀光栅沟槽微结构是否变异及变异程度。
.一种闪耀光栅沟槽微结构变异的测试系统,其特征在于:包括光源模块、待测衍射光栅、梳妆滤波器及光谱仪,其中待测衍射光栅能够将特定角度入射的光按照设计的衍射级产生衍射光。
进一步地,前述的一种闪耀光栅沟槽微结构变异的测试系统,其特征在于光源模块包含宽光源、双折射晶体、45°半波片、宽光源支架、双折射晶体支架及45°半波片支架。由宽光源发出的光射入双折射晶体后发生双折射,产生o光和e光,e光通过放置在其前面的 45°半波片后成为o光,即偏振方向垂直于待测闪耀光栅沟槽方向的多波长线偏振光。
进一步地,前述的一种闪耀光栅沟槽微结构变异的测试系统,其特征在于待测衍射光栅放置在三维调整架上,可以通过调整三维调整架的旋钮来选择闪耀光栅的待测区域范围。
进一步地,前述的一种闪耀光栅沟槽微结构变异的测试系统,其特征在于通过调整梳妆滤波器将宽光源的多波长衍射光滤出不同的波长,从而对应闪耀光栅不同的待测频率单位。
进一步地,前述的一种闪耀光栅沟槽微结构变异的测试系统,其特征在于用光谱仪接收梳妆滤波器滤出的波长,通过Labview编写的软件对光谱仪接收到的波形进行数据分析,判断闪耀光栅沟槽微结构是否变异及变异程度。
本实用新型的使用能够克服传统方法测试闪耀光栅沟槽微结构变异使用SEM、LSCM等昂贵的测试设备,测试范围小、测试速度慢和无法实现自动化等缺点,成本低、速度快,适用于大型企业和科研机构对闪耀光栅的沟槽微结构变异情况进行测试。
附图说明
图1为一种闪耀光栅沟槽微结构变异测试系统示意图。
图中各附图标记的含义为:1、光源模块;2、待测闪耀光栅;3、梳妆滤波器;4、光谱仪;
图2为光源模块示意图。
图中各附图标记的含义为:5、宽光源;6、双折射晶体;7、45°半波片;8、宽光源支架;9、双折射晶体支架;10、45°半波片支架;
图3为闪耀光栅及三维调整架示意图。
图中各附图标记的含义为:11、三维调整架;
图4为闪耀光栅微结构变异波形示意图。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于科纳技术(苏州)有限公司,未经科纳技术(苏州)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201220152170.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。