[实用新型]掩模板有效
| 申请号： | 201220227176.7 | 申请日： | 2012-05-18 |
| 公开（公告）号： | CN202563241U | 公开（公告）日： | 2012-11-28 |
| 发明（设计）人： | 于航;张锋 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;安利霞 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 模板 | ||
【权利要求书】：
1.一种掩模板，包括：掩模板曝光区域和与所述掩模板曝光区域相邻设置的掩模板非曝光区域；其特征在于，还包括：与所述掩模板曝光区域对应设置的使照射到所述掩模板曝光区域的光发散的光路补偿结构。
2.根据权利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述光路补偿结构为所述掩模板曝光区域的凹状的出光面。
3.根据权利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述光路补偿结构为设置在所述掩模板曝光区域上的凹透镜。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
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G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
