[实用新型]研磨抛光机托盘有效
| 申请号： | 201220243125.3 | 申请日： | 2012-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN202592206U | 公开（公告）日： | 2012-12-12 |
| 发明（设计）人： | 杨宇红;蒋罗雄;刘宏 | 申请（专利权）人： | 湖南宇晶机器股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/34 | 分类号： | B24B37/34;B24B55/06 |
| 代理公司： | 益阳市银城专利事务所 43107 | 代理人： | 舒斌 |
| 地址： | 413001 湖南省*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 研磨 抛光机 托盘 | ||
【权利要求书】：
1.一种研磨抛光机托盘，其特征是所述托盘(2)的表面为斜面(1)，其高度从圆心至圆周逐渐由高到低，斜面(1)的倾斜角度为8°～15°，斜面(1)上均布有10个～15个导流脚(7)，所述导流脚(7)的形状为类似弧形叶轮的圆弧叶片，圆弧叶片的切向方向与托盘(2)的旋转方向同向。
2.根据权利要求1所述的研磨抛光机托盘，其特征是托盘(2)上设有挡液罩(5)。
3.根据权利要求2所述的研磨抛光机托盘，其特征是挡液罩(5)的高度为下研磨盘(6)厚度的2倍以上。
4.根据权利要求2或3所述的研磨抛光机托盘，其特征是挡液罩(5)上设有防尘圈(4)。
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