[实用新型]研磨抛光机托盘

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种研磨抛光机，具体地说是一种研磨抛光机托盘。

背景技术

目前，研磨抛光机特别是游星式研磨抛光机在研磨或抛光过程中，需向被加工工件的加工面供应研磨液。工作中研磨抛光盘的托盘斜面上容易积砂，容易导致托盘砂液泄漏，严重时砂液会漏入托盘轴与太阳轮轴内部，造成托盘轴与太阳轮轴内的轴承损坏，使整机无法正常工作。为防止砂液泄漏，托盘常用30°以上的大斜面坡度和直面导流脚的结构，即增大托盘的排液坡度，利用砂液的重力进行排液，而在正常工作时，托盘以15r/min～50r/min的速度旋转，砂液排液存在离心力的作用，直面导流脚阻碍了砂液的排出，所以增大斜面坡度能改善因重力作用的排液，但不能从根本上解决问题，时间长了仍然会出现漏砂现象。此外，增大斜面坡度将增加整机高度，并附带出现以下三个弊端：一是高度增加不便于人工操作；二是机器的重心偏高，使得整机刚性和稳定性相对降低；三是相应的轴等机加工件需要加长，增加了成本和加工难度。

发明内容

本实用新型的目的是提供一种减少托盘斜面积砂，防止托盘砂液泄漏的研磨抛光机托盘。

本实用新型是采用如下技术方案实现其发明目的的，一种研磨抛光机托盘，所述托盘的表面为斜面，其高度从圆心至圆周逐渐由高到低，斜面的倾斜角度为8°～15°，斜面上均布有10个～15个导流脚，所述导流脚的形状为类似弧形叶轮的圆弧叶片，圆弧叶片的切向方向与托盘的旋转方向同向。

本实用新型的托盘上设有挡液罩。

本实用新型的挡液罩的高度为下研磨盘厚度的2倍以上。

本实用新型的挡液罩上设有防尘圈。

由于采用上述技术方案，本实用新型较好的实现了发明目的，其结构简单，采用挡液罩和防尘圈，防止了砂液的泄漏，延长了机器的使用寿命，同时，减小了托盘的斜面坡度，降低整机高度和重心高度，增强机器的刚性和稳定性，降低成本。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图；

图2是图1的俯视图；

图3是本实用新型的立体图；

图4是本实用新型的工作状态示意图。

具体实施方式

下面结合附图及实施例对本实用新型作进一步说明。

由图1、图2、图3可知，一种研磨抛光机托盘，所述托盘2的表面为斜面1，其高度从圆心至圆周逐渐由高到低，斜面1的倾斜角度为8°～15°（本实施例为9°，如图4所示，斜面2的倾斜角度α为9°），斜面1上均布有10个～15个导流脚7（本实施例为12个），所述导流脚7的形状为类似弧形叶轮的圆弧叶片，圆弧叶片的切向方向与托盘2的旋转方向同向。

本实用新型为阻挡砂液进入托盘轴与太阳轮轴内部，托盘2上设有挡液罩5。所述挡液罩5的高度为下研磨盘6厚度的2倍以上（本实施例为2.1倍）。

本实用新型为使砂液不能爬过挡液罩5进入托盘轴与太阳轮轴内部，挡液罩5上设有防尘圈4。

由图4可知，本实用新型托盘2与托盘轴3固连，下研磨盘6、挡液罩5固连在托盘2上，防尘圈4装在挡液罩5外圈上。

工作时，托盘2在沿运转方向A向转动时，砂液沿托盘2的导流脚7边缘B向流下（如图2所示）。由于导流脚7的边缘为圆弧状，在离心力的作用下，砂液能顺畅的沿托盘2的斜面1流下。

本实用新型主要由挡液罩5阻挡砂液，防尘圈4起到辅助密封保护的作用。