[实用新型]磁控溅射设备有效
| 申请号： | 201220261265.3 | 申请日： | 2012-06-05 |
| 公开（公告）号： | CN202626280U | 公开（公告）日： | 2012-12-26 |
| 发明（设计）人： | 贺凡;肖旭东 | 申请（专利权）人： | 中国科学院深圳先进技术研究院;香港中文大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 吴平 |
| 地址： | 518055 广东省深圳*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 磁控溅射 设备 | ||
1.一种磁控溅射设备，其特征在于，包括：
壳体，开设有反应腔；
靶材，收容于反应腔内并固定于所述壳体的内壁上；
炉盘，收容于反应腔内，所述炉盘固定于所述壳体的内壁并与所述靶材相对；及
多个挡板，设置于所述壳体的内壁上，分布于所述炉盘的周围。
2.根据权利要求1所述的磁控溅射设备，其特征在于，所述多个挡板还分布于所述靶材的周围。
3.根据权利要求2所述的磁控溅射设备，其特征在于，所述多个挡板覆盖除所述靶材和所述炉盘之外的所述壳体的内壁。
4.根据权利要求1至3中任意一项所述的磁控溅射设备，其特征在于，所述壳体的内壁上设有与所述挡板卡合连接的卡勾，所述挡板通过所述卡勾可拆卸地设置在所述壳体的内壁上。
5.根据权利要求1至3中任意一项所述的磁控溅射设备，其特征在于，所述挡板为玻璃挡板。
6.根据权利要求1至3中任意一项所述的磁控溅射设备，其特征在于，所述挡板为蓝宝石挡板。
7.根据权利要求1至3中任意一项所述的磁控溅射设备，其特征在于，所述挡板为红宝石挡板。
8.根据权利要求1至3中任意一项所述的磁控溅射设备，其特征在于，所述挡板为石英挡板。
9.根据权利要求1至3中任意一项所述的磁控溅射设备，其特征在于，所述挡板为聚甲基丙烯酸甲酯挡板。
10.根据权利要求1至3中任意一项所述的磁控溅射设备，其特征在于，所述挡板远离所述壳体的侧面为粗糙面。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院深圳先进技术研究院;香港中文大学，未经中国科学院深圳先进技术研究院;香港中文大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201220261265.3/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种太阳能电解装置
- 下一篇：向上成膜磁控溅射装置
- 同类专利
- 专利分类
