[实用新型]一种聚能工业级微波炉腔有效
申请号: | 201220284681.5 | 申请日: | 2012-06-15 |
公开(公告)号: | CN202735155U | 公开(公告)日: | 2013-02-13 |
发明(设计)人: | 王斌;江成德 | 申请(专利权)人: | 上海屹尧仪器科技发展有限公司 |
主分类号: | G01N1/44 | 分类号: | G01N1/44 |
代理公司: | 上海三和万国知识产权代理事务所 31230 | 代理人: | 蔡海淳 |
地址: | 201108 上海市闵行区*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 工业 微波炉 | ||
1.一种聚能工业级微波炉腔,包括腔体和波导口,其所述的腔体由上顶面、下底面、左侧面、右侧面、前侧面和后侧面6个面构成,在所述的下底面上放置有样品,其特征是:
在所述的上顶面与至少一个所述侧面之间的交界处,设置辅助反射斜面;
所述的辅助反射斜面,朝向下底面上放置有样品的区域;
所述的辅助反射斜面,为平面、曲面或弧形面。
2.按照权利要求1所述的聚能工业级微波炉腔,其特征是所述的辅助反射斜面为平面,所述的辅助反射平面设置在上顶面与左侧面、右侧面、前侧面或后侧面的交界处,所述辅助反射平面的平面垂线,朝向下底面上放置有样品的区域。
3.按照权利要求1所述的聚能工业级微波炉腔,其特征是所述的辅助反射斜面为曲面,所述的辅助反射曲面设置在上顶面与左侧面、右侧面、前侧面或后侧面的交界处,所述辅助反射曲面的曲面焦点或从曲面到其焦点的延长线,朝向下底面上放置有样品的区域。
4.按照权利要求1所述的聚能工业级微波炉腔,其特征是所述的辅助反射斜面为弧形面,所述的辅助反射弧形面设置在上顶面与左侧面、右侧面、前侧面或后侧面的交界处,所述辅助反射弧形面的弧面内焦点或从弧面到其内焦点的延长线,朝向下底面上放置有样品的区域。
5.一种聚能工业级微波炉腔,包括腔体和波导口,其所述的腔体由上顶面、下底面和左、右、前、后四个侧立面相交而构成,在所述的下底面上放置有样品,其特征是:在所述各个侧立面之间至少一个相交的交界处,设置辅助反射斜面;所述的辅助反射斜面,朝向下底面上放置有样品的区域;所述的辅助反射斜面为平面、曲面或弧形面。
6.按照权利要求5所述的聚能工业级微波炉腔,其特征是所述的辅助反射斜面设置在左侧面、右侧面、前侧面或后侧面之间的至少一个交界处,所述辅助反射斜面的平面或曲面垂线,朝向下底面上放置有样品的区域。
7.一种聚能工业级微波炉腔,包括腔体和波导口,其所述的腔体由上顶面、下底面和左、右、前、后四个侧立面相交而构成,在所述的下底面上放置有样品,其特征是:在所述的下底面与至少一个所述侧面之间的交界处,设置辅助反射斜面;
所述的辅助反射斜面,为平面、曲面或弧形面。
8.按照权利要求7所述的聚能工业级微波炉腔,其特征是所述的辅助反射斜面为平面,所述的辅助反射平面设置在下底面与左侧面、右侧面、前侧面或后侧面的交界处。
9.按照权利要求7所述的聚能工业级微波炉腔,其特征是所述的辅助反射斜面为曲面,所述的辅助反射曲面设置在下底面与左侧面、右侧面、前侧面或后侧面的交界处。
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