[实用新型]一种聚能工业级微波炉腔

说明书

技术领域

本实用新型属于分析装置领域，尤其涉及一种用于工业级微波仪器的微波炉腔。

背景技术

在微波仪器中，炉腔的设计基本按单模腔和多模腔来设计.

单模腔的优点是微波场强高度集中，加热效率高，但是单模腔容积太小，所以大部分微微波仪器的腔体均采用多模腔设计。

目前市场上的多模腔体基本是按照矩形结构来设计的，但是矩形腔体存在微波场强过度分散的缺点，所以实际微波利用率并不高，特别是微波消解和微波合成仪，由于其样品均处于腔体底部位置，所以腔体顶部的功率根本无法对样品加热，无形中浪费了大量微波功率。同时顶部的微波场强过高，对于安装在顶部的温度传感器导线等其它部件均有不同程度的影响和伤害，导致元器件过度发热，从而影响其使用寿命。

市场上目前也存在能将微波聚能在腔体某个位置的炉腔，例如圆弧形炉腔能将微波聚焦在炉腔中轴线附近，球形炉腔能将微波聚焦在球心位置等，但这些聚焦方式均不适应微波消解的实际使用要求。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种聚能工业级微波炉腔，该炉腔能将腔体内的微波场强聚焦集中在腔体底部或指定区域，并在腔体底部或指定区域中均匀分布，以便均匀加热位于炉腔底部或指定区域的所有样品。

本实用新型的技术方案是：提供一种聚能工业级微波炉腔，包括腔体和波导口，其所述的腔体由上顶面、下底面、左侧面、右侧面、前侧面和后侧面6个面构成，在所述的下底面上放置有样品，其特征是：在所述的上顶面与至少一个所述侧面之间的交界处，设置辅助反射斜面；所述的辅助反射斜面，朝向下底面上放置有样品的区域；所述的辅助反射斜面，为平面、曲面或弧形面。

具体的，其所述的辅助反射斜面为平面，所述的辅助反射平面设置在上顶面与左侧面、右侧面、前侧面或后侧面的交界处，所述辅助反射平面的平面垂线，朝向下底面上放置有样品的区域。

或者。其所述的辅助反射斜面为曲面，所述的辅助反射曲面设置在上顶面与左侧面、右侧面、前侧面或后侧面的交界处，所述辅助反射曲面的曲面焦点或从曲面到其焦点的延长线，朝向下底面上放置有样品的区域。

或者，其所述的辅助反射斜面为弧形面，所述的辅助反射弧形面设置在上顶面与左侧面、右侧面、前侧面或后侧面的交界处，所述辅助反射弧形面的弧面内焦点或从弧面到其内焦点的延长线，朝向下底面上放置有样品的区域。

进一步的，所述的辅助反射斜面设置在上顶面与左侧面、右侧面、前侧面或后侧面之一的交界处。

其所述的波导口设置在腔体后侧面的炉腔壁上。

本实用新型的技术方案还提供一种聚能工业级微波炉腔，包括腔体和波导口，其所述的腔体由上顶面、下底面和左、右、前、后四个侧立面相交而构成，在所述的下底面上放置有样品，其特征是：在所述各个侧立面之间至少一个相交的交界处，设置辅助反射斜面；所述的辅助反射斜面，朝向下底面上放置有样品的区域；所述的辅助反射斜面为平面、曲面或弧形面。

进一步的，所述的辅助反射斜面设置在左侧面、右侧面、前侧面或后侧面之间的至少一个交界处，所述辅助反射斜面的平面或曲面垂线，朝向下底面上放置有样品的区域。

本实用新型的技术方案又提供一种聚能工业级微波炉腔，包括腔体和波导口，其所述的腔体由上顶面、下底面和左、右、前、后四个侧立面相交而构成，在所述的下底面上放置有样品，其特征是：在所述的下底面与至少一个所述侧面之间的交界处，设置辅助反射斜面；所述的辅助反射斜面，为平面、曲面或弧形面。

其所述的辅助反射斜面为平面，所述的辅助反射平面设置在下底面与左侧面、右侧面、前侧面或后侧面的交界处。

其所述的辅助反射斜面为曲面，所述的辅助反射曲面设置在下底面与左侧面、右侧面、前侧面或后侧面的交界处。

与现有技术比较，本实用新型的优点是：

1.通过设置辅助反射斜面结构，能将腔体内的微波场强聚焦、集中在腔体的底部，并在腔体底部均匀分布，以便均匀加热位于炉腔底部的所有样品；在该炉腔的聚能作用下，就能使得炉腔底部整个平面的样品都能得到高效、均匀、充分的加热；

2.腔体内的微波场强被集中反射到腔体底部，从而使得腔体底部能形成均匀密集的微波场强；同时，由于顶部各面的反射作用，使得腔体顶部的微波场强会比较低，有助于延长设置在腔体顶部的温度传感器、导线或其它部件的使用寿命；

3.相对于弧形和球形腔来说，本技术方案除了同时拥有聚能作用外，在均匀性及腔体机械加工工艺的简化上，都优于其他结构的腔体。

附图说明