[实用新型]一种用于真空镀膜设备的双层密封结构

权利要求书

1.一种用于真空镀膜设备的双层密封结构，包括密封法兰(1)、光面法兰(2)、 内层密封圈(3)、外层密封圈(4)、支架(5)、密封槽(6)、泄气槽(7)、泄气孔(8)和真空泵，其特征在于所述密封法兰(1)的密封面上开设有密封槽(6)，密封槽(6)内设有内层密封圈(3)和外层密封圈(4)，内层密封圈(3)和外层密封圈(4)之间开设有泄气槽(7)，泄气槽(7)上设有泄气孔(8) ，泄气槽(7)通过泄气孔(8)连接真空管道一端，真空管道另一端连接真空泵。

2.如权利要求1所述的一种用于真空镀膜设备的双层密封结构，其特征在于所述的内层密封圈(3)和外层密封圈(4)嵌于同一密封槽(6)内。

3.如权利要求1所述的一种用于真空镀膜设备的双层密封结构，其特征在于所述的内层密封圈(3)和外层密封圈(4)之间通过支架(5)隔开。

4.如权利要求3所述的一种用于真空镀膜设备的双层密封结构，其特征在于所述的支架(5)分为若干段，通过螺钉固定于密封法兰(1)上，支架(5)下表面开设有泄气槽(7)。

5.如权利要求1所述的一种用于真空镀膜设备的双层密封结构，其特征在于所述的内层密封圈(3)和外层密封圈(4)分别嵌于相互独立的两密封槽内。

6.如权利要求1所述的一种用于真空镀膜设备的双层密封结构，其特征在于所述的内层密封圈(3)和外层密封圈(4) 在螺栓力或者重力和压差力的作用下压紧光面法兰(2)，形成双层密封结构。