[实用新型]一种用于真空镀膜设备的双层密封结构有效
申请号: | 201220331363.X | 申请日: | 2012-07-09 |
公开(公告)号: | CN202705460U | 公开(公告)日: | 2013-01-30 |
发明(设计)人: | 罗松松;葛治亮;李险峰 | 申请(专利权)人: | 中国建材国际工程集团有限公司 |
主分类号: | C23C14/56 | 分类号: | C23C14/56 |
代理公司: | 上海三方专利事务所 31127 | 代理人: | 吴干权;李美立 |
地址: | 200063 上海市普*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 真空镀膜 设备 双层 密封 结构 | ||
[技术领域]
本实用新型涉及真空镀膜设备技术领域,具体涉及一种用于真空镀膜设备的双层密封结构。
[背景技术]
真空镀膜是一种产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。真空镀膜的先决条件是要确保真空腔室具有良好稳定的真空度。目前,真空镀膜设备密封形式多采用单根橡胶圈密封,这种密封形式适用于较小密封面的密封,对于较大密封面采用该种密封方式容易出现密封效果不佳的问题。尤其对于经常开闭的盖板,橡胶圈受反复作用力以及温度和其他环境因素的影响下,很容易产生异常变形和老化,缩短橡胶圈的使用寿命。橡胶圈一旦在局部某处产生异常变形和老化,就会影响镀膜设备真空度的获得;而且因需经常更换密封件,极大的影响着生产连续、正常的进行。
[实用新型内容]
本实用新型就是为了解决现有技术中的不足,提供一种结构新颖,密封性能更可靠,稳定性好的一种用于真空镀膜设备的双层密封结构。
为实现上述目的,提供一种用于真空镀膜设备的双层密封结构,包括密封法兰1、光面法兰2、 内层密封圈3、外层密封圈4、支架5、密封槽6、泄气槽7、泄气孔8和真空泵,其特征在于所述密封法兰1的密封面上开设有密封槽6,密封槽6内设有内层密封圈3和外层密封圈4,内层密封圈3和外层密封圈4之间开设有泄气槽7,泄气槽7上设有泄气孔8 ,泄气槽7通过泄气孔8连接真空管道一端,真空管道另一端连接真空泵。
所述的内层密封圈3和外层密封圈4嵌于同一密封槽6内。
所述的内层密封圈3和外层密封圈4之间通过支架5隔开。
所述的支架5分为若干段,通过螺钉固定于密封法兰1上,支架5下表面开设有泄气槽7。
所述的内层密封圈3和外层密封圈4分别嵌于相互独立的两密封槽内。
所述的内层密封圈3和外层密封圈4 在螺栓力或者重力和压差力的作用下压紧光面法兰2,形成双层密封结构。
本实用新型同现有技术相比,其采用了双层密封圈的结构,使得密封性能更可靠;且不会因其中一根密封圈的失效而影响真空腔体的密封性,延长了大面积密封结构的使用寿命。同时,本密封结构具有结构简单,易安装、拆卸的优点。
[附图说明]
图1为本实用新型实施例1的结构示意图;
图2为本实用新型实施例2的结构示意图;
如图所示,图中:1为密封法兰 2为光面法兰 3为内层密封圈 4为外层密封圈 5为支架 6为密封槽 7为泄气槽 8为泄气孔 9为真空腔室;
指定图1为本实用新型的摘要附图。
[具体实施方式]
下面结合附图对本实用新型作进一步说明,这种装置的结构和原理对本专业的人来说是非常清楚的。
本实用新型解决为一种用于真空镀膜设备的双层密封结构,包括真空泵,真空泵通过真空管道与法兰上泄气孔连接,其特征在于:它由内层密封圈、外层密封圈以及密封法兰和光面法兰组成。密封法兰密封面上开有密封槽,内层密封圈和外层密封圈嵌于密封槽内;两密封圈间开有泄气槽,法兰体上开有一泄气孔,泄气槽通过泄气孔以及真空管道与真空泵相连,通过真空泵可以把两密封圈间的气体排出,形成真空,提高密封效果。两密封圈在螺栓力或者重力和压差力的作用下压紧光面法兰,形成双层密封。
在上述主要技术方案的基础上,可以增加以下进一步完善的技术方案:
内层密封圈和外层密封圈可嵌于同一密封槽内,密封法兰密封面上只需开一个密封槽,简化了密封槽结构,减小了加工难度。同一密封槽内的内外两层密封圈间通过支架隔开,支架同时起到固定密封圈的作用。支架可分为若干段,通过螺钉固定于密封法兰体上,支架下表面开有泄气槽,用于排出两密封圈间的气体。内层密封圈和外层密封圈也可分别嵌于相互独立的两密封槽内,无需支架固定,节约了支架成本。双层密封结构既可垂直安装,也可水平安装;对于垂直安装的形式,两法兰间通过螺栓连接,如镀膜腔体与腔体之间的密封;对于水平安装的形式,两密封圈在密封法兰的重力以及压差力的作用下压紧光面法兰,如盖板与腔体间的密封,则可省去螺栓连接。
实施例一:
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