[实用新型]一种具有喷雾功能的湿法刻蚀机有效
| 申请号： | 201220362016.3 | 申请日： | 2012-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN202839710U | 公开（公告）日： | 2013-03-27 |
| 发明（设计）人： | 王虎;姚琪;陆波;邱小永 | 申请（专利权）人： | 浙江贝盛光伏股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L31/18 | 分类号： | H01L31/18;H01L21/306 |
| 代理公司： | 湖州金卫知识产权代理事务所(普通合伙) 33232 | 代理人： | 裴金华 |
| 地址： | 313000 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 具有 喷雾 功能 湿法 刻蚀 | ||
1.一种具有喷雾功能的湿法刻蚀机，所述湿法刻蚀机包括刻蚀机台和设置于刻蚀机台上用于传送硅片（1）的滚轮（2），所述刻蚀机台上方设置有喷水装置（3），其特征在于：所述刻蚀机台上方位于喷水装置（3）与硅片（1）传送方向相反的一侧设置有喷雾装置（4），所述喷雾装置（4）喷出的雾滴覆盖硅片（1）表面。
2.根据权利要求1所述一种具有喷雾功能的湿法刻蚀机，其特征在于：所述喷雾装置（4）包括连接板（42）和设置于连接板（42）上的喷头（41）。
3.根据权利要求2所述一种具有喷雾功能的湿法刻蚀机，其特征在于：所述连接板（42）上设置有一个喷头（41）。
4.根据权利要求2所述一种具有喷雾功能的湿法刻蚀机，其特征在于：所述连接板（42）上设置有多个喷头（41）。
5.根据权利要求3或4所述一种具有喷雾功能的湿法刻蚀机，其特征在于：所述喷头（41）喷雾方向与所述硅片（1）传送方向呈30－150度角。
6.根据权利要求1、2、3或4所述一种具有喷雾功能的湿法刻蚀机，其特征在于：所述雾滴的直径为1－1000微米。
7.根据权利要求5所述一种具有喷雾功能的湿法刻蚀机，其特征在于：所述雾滴的直径为1－1000微米。
8.根据权利要求6所述一种具有喷雾功能的湿法刻蚀机，其特征在于：所述喷雾装置（4）喷出的雾滴为去离子水。
9.根据权利要求7所述一种具有喷雾功能的湿法刻蚀机，其特征在于：所述喷雾装置（4）喷出的雾滴为去离子水。
10.根据权利要求9所述一种具有喷雾功能的湿法刻蚀机，其特征在于：所述连接板（42）上设置有两个喷头（41），分别位于连接板（42）两端并与连接板（42）形成一个倒置的梯形槽状。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射，或微粒辐射敏感的，并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件；专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的，例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的，一个或多个电光源，如场致发光光源在结构上相连的，并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
