[实用新型]曝光对位系统有效
申请号: | 201220366130.3 | 申请日: | 2012-07-26 |
公开(公告)号: | CN202837810U | 公开(公告)日: | 2013-03-27 |
发明(设计)人: | 李炬;肖丽;王金鹏;李松凌;王安建;佘瑞峰 | 申请(专利权)人: | 四川聚能核技术工程有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F9/00;H05K3/06 |
代理公司: | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 李世喆 |
地址: | 621700 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 曝光 对位 系统 | ||
1.一种曝光对位系统,用于印制电路板晒架,其特征在于,该系统包括:
底片偏差感应模块,用于感应放入所述晒架中的上底片和下底片的对位靶点位置,确定所述上底片、下底片之间的第一位置偏差;
底片对位模块,用于根据所述第一位置偏差确定底片移动值,根据所述底片移动值,以所述上底片和所述下底片其中之一为基准驱动另一个进行所述上底片、所述下底片的对位;
锁定模块,用于将对位完成的所述上底片、所述下底片进行位置锁定;
覆铜箔板偏差感应模块,用于感应放入被位置锁定的所述上底片和所述下底片之间的覆铜箔板的对位靶点位置,确定所述覆铜箔板与所述上底片或所述下底片之间的第二位置偏差;
覆铜箔板对位模块,用于根据所述第二位置偏差确定覆铜箔板移动值,根据所述覆铜箔板移动值,以所述上底片或所述下底片为基准,驱动所述覆铜箔板进行所述覆铜箔板与所述上底片、所述下底片的对位。
2.如权利要求1所述的曝光对位系统,其特征在于,所述底片偏差感应模块,包括:
底片位置感应器,用于感应放入晒架中的上底片和下底片的对位靶点位置;
底片偏差获取器,用于根据所述上底片和下底片的对位靶点位置,确定所述上底片、下底片之间的第一位置偏差。
3.如权利要求1所述的曝光对位系统,其特征在于,所述底片对位模块包括:
底片移动控制器,用于根据所述第一位置偏差确定底片移动值;
底片驱动器,用于根据所述底片移动值,以所述上底片和所述下底片其中之一为基准驱动另一个进行所述上底片、所述下底片的对位。
4.如权利要求3所述的曝光对位系统,其特征在于,所述底片移动控制器包括:
移动值确定单元,用于确定底片在水平X、Y方向上的移动值和转动值。
5.如权利要求4所述的曝光对位系统,其特征在于,所述底片驱动器包括:
一个X驱动单元,用于根据所述移动值确定单元确定的,底片在水平X方向上的移动值;驱动底片在水平X方向上移动;
两个Y驱动单元,用于根据所述移动值确定单元确定的,底片在水平Y方向上的移动值;驱动底片在水平Y方向上移动;根据转动值,即两个Y驱动单元在水平Y方向上的移动值之差,驱动底片在水平方向上转动。
6.如权利要求1所述的曝光对位系统,其特征在于,所述覆铜箔板偏差感应模块,包括:
覆铜箔板位置感应器,用于感应放入被位置锁定的所述上底片和所述下底片之间的所述覆铜箔板的对位靶点位置;
覆铜箔板偏差获取器,用于根据所述覆铜箔板的对位靶点位置,确定所述覆铜箔板与所述上底片或所述下底片之间的第二位置偏差。
7.如权利要求1所述的曝光对位系统,其特征在于,所述覆铜箔板对位模块包括:
覆铜箔板移动控制器,用于根据所述第二位置偏差确定覆铜箔板移动值;
覆铜箔板驱动器,用于根据所述覆铜箔板移动值,以所述上底片或所述下底片为基准,驱动所述覆铜箔板进行所述覆铜箔板与所述上底片、所述下底片的对位。
8.如权利要求7所述的曝光对位系统,其特征在于,所述覆铜箔板移动控制器包括:
移动值确定单元,用于确定覆铜箔板在水平X、Y方向上的移动值和转动值。
9.如权利要求8所述的曝光对位系统,其特征在于,所述覆铜箔板驱动器 包括:
一个X驱动单元,用于根据所述移动值确定单元确定的,覆铜箔板在水平X方向上的移动值;驱动覆铜箔板在水平X方向上移动;
两个Y驱动单元,用于根据所述移动值确定单元确定的,覆铜箔板在水平Y方向上的移动值;驱动覆铜箔板在水平Y方向上移动;根据所述转动值,即两个Y驱动单元在水平Y方向上的移动值之差,驱动覆铜箔板在水平方向上转动。
10.如权利要求1~7中任一项所述的曝光对位系统,其特征在于,该系统进一步包括:
限位模块,用于限制所述晒架的上框,在上框运动的过程中,与下框之间在水平方向上的相对移动。
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