[实用新型]真空蒸镀装置有效
| 申请号： | 201220403488.9 | 申请日： | 2012-08-15 |
| 公开（公告）号： | CN202786404U | 公开（公告）日： | 2013-03-13 |
| 发明（设计）人： | 冈田利幸;藤本惠美子;大工博之 | 申请（专利权）人： | 日立造船株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/14 |
| 代理公司： | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人： | 李雪春;武玉琴 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 真空 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种真空蒸镀装置，包括：真空蒸镀用的坩埚，收容金属蒸镀材料；以及加热装置，使所述坩埚中收容的蒸镀材料熔融并蒸发，所述真空蒸镀装置的特征在于，
所述坩埚内部的中央部具备柱状的突出部，
所述加热装置包括：主加热器，从背面侧加热所述突出部；以及副加热器，从外侧加热所述坩埚的内周面，
利用所述主加热器蒸发的蒸镀材料的量多于利用所述副加热器蒸发的蒸镀材料的量。
2.根据权利要求1所述的真空蒸镀装置，其特征在于，所述突出部为沿铅直方向延伸的锥状体，所述突出部的顶部高于所述坩埚的开口部的边缘。
3.根据权利要求1或2所述的真空蒸镀装置，其特征在于，所述突出部的顶部的前端形状为球形。
4.根据权利要求2所述的真空蒸镀装置，其特征在于，
在所述坩埚的开口部上设置具有孔部的盖体，所述孔部的内径小于所述坩埚的开口部的内径，
所述突出部的顶部插通并突出于所述盖体的孔部，且在所述顶部的插通部分处，在所述顶部和所述盖体之间形成有间隙。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日立造船株式会社，未经日立造船株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201220403488.9/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：制备热解氮化硼制品用的有多方位进气口的气相沉积炉
- 下一篇：一种烟化炉喷枪
- 同类专利
- 专利分类
