[实用新型]真空蒸镀装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及真空蒸镀装置。特别涉及使用金属蒸镀材料的真空蒸镀装置。

背景技术

作为以往的真空蒸镀装置的示例，专利文献1（日本专利公开公报特开平4-263064号）公开的真空蒸镀装置在底面中央部具有隆起部，该隆起部的内部具有空洞，而且在空洞的内部配置有加热装置。按照所述真空蒸镀装置，由于在中央部的隆起部附近温度最高，所以可以使蒸镀材料Al登上隆起部，可以提高熔融金属的蒸镀效率。

但是，由于这种以往的真空蒸镀装置仅具有加热隆起部的加热装置，所以使金属熔化并开始稳定蒸发需要花费时间，并且因长时间的加热使得只有隆起部的附近局部产生高温，可能会导致坩埚破损。

实用新型内容

为了解决上述问题，本实用新型的目的在于提供一种能形成均匀的蒸镀膜的真空蒸镀装置。

本实用新型的真空蒸镀装置包括：真空蒸镀用的坩埚，收容金属蒸镀材料；以及加热装置，使所述坩埚中收容的蒸镀材料熔融并蒸发，所述坩埚内部的中央部具备柱状的突出部，所述加热装置包括：主加热器，从背面侧加热所述突出部；以及副加热器，从外侧加热所述坩埚的内周面，利用所述主加热器蒸发的蒸镀材料的量多于利用所述副加热器蒸发的蒸镀材料的量。

根据本实用新型的真空蒸镀装置，利用主加热器使蒸镀材料主动地向突出部浸润，可以使突出部成为主要的蒸镀源，而且利用副加热器维持蒸镀材料的液相状态。因此，利用加热装置的控制，能容易地控制蒸发量和蒸发方向，能够使金属蒸汽的放射分布稳定。所以，缩短了直到开始蒸发为止的时间，坩埚不会因局部加热而破损，能形成均匀的蒸镀膜。

附图说明

图1是表示第一实施方式的真空蒸镀装置的结构的图。

图2是表示图1所示的真空蒸镀装置的坩埚和加热装置的内部结构的图，（a）为上方立体图，（b）为下方立体图。

图3是表示图1所示的真空蒸镀装置的坩埚内部和加热装置的结构的图。

图4是表示第二实施方式的真空蒸镀装置的结构的图。

图5是表示图4所示的真空蒸镀装置的坩埚和盖体以及加热装置的内部结构的图，（a）为上方立体图，（b）为表示它们的内部结构的图。

图6是表示第一和第二实施方式的真空蒸镀装置的坩埚的突出部的变形例的图，（a）表示突出部的顶点与坩埚的开口部边缘一致的情况，（b）表示突出部的顶点低于坩埚的开口部边缘的情况。

附图标记说明

1、10  真空蒸镀装置

2      真空蒸镀室

3      蒸镀材料

31     第一蒸发方向

32     第二蒸发方向

33     第三蒸发方向

4      坩埚

41     开口部

41a    开口部的边缘

43     内周面

44     突出部

44a    突出部的顶部

45     突出部的背面

47     坩埚的外周面

5      加热装置

51     主加热器

52     副加热器

53a    主加热器的电阻发热元件

53b    副加热器的电阻发热元件

8      盖体

81     盖体的孔部

r1     开口部的内径

r2     盖体的孔部的内径

d      间隙

具体实施方式

以下分别说明本实用新型的第一实施方式、第二实施方式和变形例。

（第一实施方式）

使用图1～图3说明本实用新型的第一实施方式的真空蒸镀装置1。真空蒸镀装置1包括：进行蒸镀作业的真空蒸镀室2；收容金属蒸镀材料3的真空蒸镀用的坩埚4；以及使坩埚4中收容的蒸镀材料3熔融并蒸发的加热装置5。具体如图1所示，在真空蒸镀装置1中，基板6被水平保持在真空蒸镀室2内，上表面具有开口部41的竖长的坩埚4配置在真空蒸镀室2的外部，加热装置5配置在坩埚4的外部。加热装置5与电源装置7电连接。用加热装置5加热坩埚4，使蒸镀材料3从位于基板6下方的坩埚4蒸发并升华，从而在基板6上对蒸镀材料3进行蒸镀、制膜。