[实用新型]具有防尘结构的真空等离子腔室

权利要求书

1.一种具有防尘结构的真空等离子腔室，其包括上腔室（1）和下腔室（2），所述上腔室（1）和所述下腔室（2）之间通过设置于所述下腔室（2）上端面的密封槽（21）内的密封圈（3）实现密封连接，其特征在于：

所述下腔室（2）或所述上腔室（1）的腔室内壁上可拆卸连接有挡板（4），所述挡板（4）的一部分板面贴合所述上腔室（1）的内壁，一部分板面贴合所述下腔室（2）的内壁。

2.根据权利要求1所述的具有防尘结构的真空等离子腔室，其特征在于：

所述挡板（4）与所述上腔室（1）和所述下腔室（2）贴合的板面的粗糙度Ra大于50微米，其靠近腔室内的板面涂覆绝缘涂层。

3.根据权利要求1或2所述的具有防尘结构的真空等离子腔室，其特征在于：

所述挡板（4）与所述下腔室（2）之间通过螺钉实现螺纹（5）连接，所述螺钉（5）头部涂覆绝缘涂层。

4.根据权利要求3所述的具有防尘结构的真空等离子腔室，其特征在于：

所述下腔室（2）与所述上腔室（1）的内腔为方形结构，所述隔板（4）的个数与所述下腔室（2）、所述上腔室（1）的边数相同。

5.根据权利要求1所述的具有防尘结构的真空等离子腔室，其特征在于：

所述挡板（4）与所述上腔室（1）和所述下腔室（2）贴合的板面涂覆粗糙度Ra大于50微米的铝制磨砂涂层，其靠近工艺腔室内的板面涂覆Al₂O₃或/和Y₂O₃绝缘涂层。