[实用新型]一种真空处理装置及其射频滤波器、射频滤波器盒

说明书

技术领域

本实用新型涉及半导体制造领域，尤其涉及一种一种真空处理装置及其射频滤波器、射频滤波器盒。

背景技术

真空处理装置利用真空反应室的工作原理进行半导体基片和等离子平板的基片的加工。真空反应室的工作原理是在真空反应室中通入含有适当刻蚀剂源气体的反应气体，然后再对该真空反应室进行射频能量输入，以激活反应气体，来激发和维持等离子体，以便分别刻蚀基片表面上的材料层或在基片表面上淀积材料层，进而对半导体基片和等离子平板进行加工。

真空处理装置包括一腔体，在腔体下方设置有其他配件，例如射频滤波器盒。射频滤波器盒主要用于容纳射频滤波器。然而，真空处理装置一般需要多个射频滤波器。众所周知，真空处理装置内的空间非常有限，因此射频滤波器在射频滤波器盒中的排布就需要占用尽量小的空间。

实用新型内容

针对背景技术中的上述问题，本实用新型提出了一种真空处理装置及其射频滤波器、射频滤波器盒。

本实用新型第一方面提供了一种用于真空处理装置的射频滤波器，其中，所述真空处理装置包括一腔室，在腔室的下方包括一容纳有若干射频滤波器的射频滤波器盒，所述射频滤波器至少包括一圆环状铁氧体，所述铁氧体上缠绕有线圈，其特征在于：

所述若干射频滤波器两两重叠放置，在两个所述射频滤波器之间还放置有绝缘块，其中，所述绝缘块的两个表平面分别接触于该两个射频滤波器的一表平面。

进一步地，所述射频滤波器盒包括一绝缘板，在该绝缘板上竖直固定有第一挡板和第二挡板，所述第一挡板和所述第二挡板上具有若干第一通孔，所述第一通孔和所述铁氧体上的第二通孔以及所述绝缘块上的第三通孔可以通过一螺钉穿过并固定。

进一步地，其特征在于，所述绝缘板外围设置有一接地板，所述接地板连接有接地端。

进一步地，所述所述射频滤波器盒包括一绝缘板，所述绝缘板上具有第四通孔，所述第四通孔和所述铁氧体上的第二通孔以及所述绝缘块上的第三通孔可以通过一螺钉穿过并固定。

进一步地，所述绝缘板外围设置有一接地板，所述接地板连接有接地端。

进一步地，所述射频滤波器的直径的取值范围为30mm~60mm。

进一步地，所述射频滤波器组成的射频滤波器组的宽度和长度的取值范围分别为30mm~90mm和60mm~200mm。

进一步地，所述铁氧体的厚度取值范围为，所述铁氧体的厚度取值范围为10mm~20mm，所述绝缘块的厚度的取值范围为5mm~15mm，所述射频滤波器之间的距离的取值范围为5mm~10mm。

本实用新型第二方面提供了一种用于真空处理装置的射频滤波器盒，其特征在于，所述射频滤波器盒包括本实用新型第一方面所述的射频滤波器。

本实用新型第三方面提供了一种真空处理装置，其特征在于，所述射频滤波器包括本实用新型第二方面所述的射频滤波器盒。

本实用新型提供的射频滤波器在真空处理装置中的射频滤波器盒中的排布方式，能够在充分安全隔离的前提下极大地节省腔室内空间，节约了人力物力。

附图说明

图1(a)和图1(b)是现有技术的射频滤波器在射频滤波器盒中的排布示意图；

图2是射频滤波器的结构示意图；

图3(a)和图3(b)是根据本实用新型的一个具体实施例的射频滤波器的排布示意图；

图4是根据本实用新型的另一具体实施例的射频滤波器的排布示意图。

具体实施方式

以下结合附图，对本实用新型的具体实施方式进行说明。

图1(a)和图1(b)示出了现有技术的射频滤波器在射频滤波器盒中的排布示意图。如图1(a)和图1(b)所示，多个射频滤波器102直接通过螺钉固定在射频滤波器盒的接地板100上。由于射频滤波器102包括一圆环状铁氧体，而圆环状铁氧体的直径为30mm~60mm，每个射频滤波器之间还要保持一定距离以方便制造和防止串扰。若按照图(a)和图1(b)所示的8个射频滤波器102按照2×4的矩阵排布，则，这样的射频滤波器矩阵所占的宽度至少要达到80mm~150mm，长度至少要达到160mm~300mm。

图2是射频滤波器的结构示意图。射频滤波器202至少包括一圆环状铁氧体2021，所述铁氧体2021上缠绕有线圈2022。由于铁氧体2021是由金属铁制成，则两个射频滤波器202之间需要设置绝缘块204进行隔离，以防止串扰。