[实用新型]一种大尺寸OLED蒸镀用掩模板组件有效
申请号: | 201220454410.X | 申请日: | 2012-09-07 |
公开(公告)号: | CN202913044U | 公开(公告)日: | 2013-05-01 |
发明(设计)人: | 魏志凌;高小平;张炜平 | 申请(专利权)人: | 昆山允升吉光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 尺寸 oled 蒸镀用掩 模板 组件 | ||
技术领域
本发明涉及电子印刷领域,尤其涉及一种大尺寸OLED蒸镀用掩模板组件。
背景技术
由于有机电致发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,OLED)由于同时具备自发光,不需背光源、对比度高、厚度薄、视角广、反应速度快、可用于挠曲性面板、使用温度范围广、构造及制程较简单等优异之特性,被认为是下一代的平面显示器新兴应用技术。
OLED生产过程中最重要的一环节是将有机层按照驱动矩阵的要求敷涂到基层上,形成关键的发光显示单元。OLED是一种固体材料,其高精度涂覆技术的发展是制约OLED产品化的关键。目前完成这一工作,主要采用真空沉积或真空热蒸发(VTE)的方法,其是将位于真空腔体内的有机物分子轻微加热(蒸发),使得这些分子以薄膜的形式凝聚在温度较低的基层上。在这一过程中需要与OLED发光显示单元精度相适应的高精密掩模板作为媒介。
掩模板由掩模部及掩模外框构成,图1所示是传统小尺寸掩模板的结构示意图,其包括一体成型的掩模部11及用于固定一体成型掩模部11的掩模外框12。在实际应用领域中,人们希望制作出更大尺寸的掩模板,从而满足量产及大尺寸OLED显示屏的制造需求,但制作大尺寸掩模板会存在以下问题:大面幅的掩模部由于本身的重量会出现严重的下垂现象。为解决这一问题,人们将掩模部设计成多个掩模单元组装而成,如图2所示,掩模部是由若干个掩模单元20构成,掩模单元通过两端200固定掩模外框上,由于掩模单元是通过两端固定的方式固定,一旦相邻两掩模部固定过程出现偏差,则相互之间极易产生一定的位置偏移,从而在OLED产品的良率上难以进一步提高。
发明内容
有鉴于此,需要克服现有技术中的上述缺陷中的至少一个。本发明提供了一种复合掩模板。
所述一种大尺寸OLED蒸镀用掩模板组件,包括掩模外框、掩模部以及支撑部,其中,所述掩模部与和固定在所述掩模外框的所述支撑部连接;所述支撑部包括N大于等于2个支撑部单元;所述支撑部单元由所述支撑条构成,所述掩模部上有掩模开口,所述支撑部单元不会遮挡所述掩模开口,所述掩模开口构成所述掩模部上的掩模图案区。
根据本专利背景技术中对现有技术所述,若制作大尺寸掩模板,其金属型的掩模主体会具有较大的线性质量,从而会导致掩模主体板面产生下垂,而根据本发明提供的大尺寸OLED蒸镀用掩模板组件,掩模部贴合在支持部上,而支撑部可以先进行精确定位,再将掩模部贴合在支撑部之上,如此可以对下垂的掩模主体提供直接贴合的支撑力,降低或弥补掩模主体板面产生下垂的情况,并避免了本专利背景技术中对现有由多个掩模单元组装而成的掩模部出现的问题,如图2所示,即掩模单元是通过两端固定的方式固定,一旦相邻两掩模部固定过程出现偏差,则相互之间极易产生一定的位置偏移,从而在OLED产品的良率上难以进一步提高,本专利提供的大尺寸OLED蒸镀用掩模板组件能有效的改善产品的精度、质量,并提高良品率。
另外,根据本发明公开的复合掩模板的还具有如下附加技术特征:
根据本发明的实施例,所述掩模部至少有一个掩模图案区。
根据本发明的实施例,所述掩模部上任一所述掩模开口置于所述支撑部中相邻的两个所述支撑条之间,相邻的所述支撑条的间距是所述掩模开口间距的M倍,所述M大于等于1且为正整数。
根据本发明的一些实施例,所述支撑条均匀排布。
根据本发明的实施例,所述支撑部采用具有磁性能的合金材料结构。
优选地,所述支撑部采用因瓦合金材料结构。
根据本发明的实施例,所述掩模部采用耐磨、耐高温、耐酸碱且与所述支撑层之间有良好附着力的材料结构。
优选地,所述掩模部采用性能稳定的聚合高分子材料结构。
根据本发明的实施例,所述支撑部厚度大于等于20μm,小于等于60μm。
根据本发明的一些实施例,所述支撑部厚度为20μm或30μm或40μm或50μm或60μm。
根据本发明的实施例,所述掩模部厚度大于等于2μm,小于等于20μm。
根据本发明的一些实施例,所述掩模部厚度为2μm或6μm或10或14μm或18μm或20μm。
根据本发明的一个实施例,所述掩模部厚度为6μm,所述支撑部厚度为30μm。
根据本发明的实施例,所述掩模开口间距大于等于30μm小于等于200μm。
优选地,所述掩模开口间距大于等于50μm小于等于100μm。
根据本发明的一个实施例,所述掩模开口间距为75μm。
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