[实用新型]一种用于处理三氯氢硅合成尾气的洗涤精馏塔有效
申请号: | 201220475452.1 | 申请日: | 2012-09-17 |
公开(公告)号: | CN202778186U | 公开(公告)日: | 2013-03-13 |
发明(设计)人: | 赵雄;杜俊平;严大洲;汤传斌;肖荣晖;毋克力;杨永亮;姜利霞 | 申请(专利权)人: | 中国恩菲工程技术有限公司 |
主分类号: | B01D50/00 | 分类号: | B01D50/00;B01D5/00 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 宋合成;黄德海 |
地址: | 100038*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 处理 三氯氢硅 合成 尾气 洗涤 精馏塔 | ||
技术领域
本实用新型涉及三氯氢硅合成技术领域,更具体地,本实用新型涉及一种用于处理三氯氢硅合成尾气的洗涤精馏塔。
背景技术
多晶硅是集成电路和光伏发电用关键原材料,是《国家中长期科学和技术发展规划纲要》制造业领域基础原材料优先主题的重要内容。世界多晶硅生产的产业化技术主要有二种工艺,即改良西门子工艺和硅烷法工艺。以产能比较,改良西门子工艺占总产能的82%,硅烷法占18%,先进的多晶硅生产技术一直由美、日、德等国的几家公司所垄断。而三氯氢硅,又名三氯硅烷(SiHCl3)为改良西门子工艺生产多晶硅的主要原料。
目前三氯氢硅合成尾气处理的方法主要为干法除尘及干法与湿法除尘相结合,干法除尘的缺点是对气固分离设备的要求较高,且金属杂质容易粘附到管壁,影响系统运行的连续性,而采用干法与湿法除尘相结合的方式,可以适当降低气固分离设备的分离要求,但其湿法除尘塔大多为洗涤塔,洗涤后气仍含有大量的金属杂质,影响后续系统的连续稳定运行。
实用新型内容
本实用新型旨在至少在一定程度上解决上述技术问题之一或至少提供一种有用的商业选择。为此,本实用新型的一个目的在于提出一种稳定性强、连续性好、除杂效果明显的用于处理三氯氢硅合成尾气的洗涤精馏塔。
根据本实用新型示例的用于处理三氯氢硅合成尾气的洗涤精馏塔,所述洗涤精馏塔包括塔体,所述塔体下部设有合成尾气进口,塔体上部设有洗涤后气出口,所述塔体内包括从上至下依次连接的塔板区、筛板区和挡板区,其中,所述挡板区位于所述合成尾气进口上方,所述挡板区内径向设置人字挡板,所述人字挡板上设有开口以除去合成尾气中的固体杂质;所述筛板区内设有筛板,所述筛板将经过所述挡板区处理的合成尾气进行筛选以除去合成尾气中残存的固体杂质;所述塔板区内设有多层塔板,相邻塔板之间设有溢流堰,所述塔板区将经过所述筛板区处理的合成尾气进行洗涤以除去其中的金属杂质。
根据本实用新型示例的用于处理三氯氢硅合成尾气的洗涤精馏塔,将合成尾气的洗涤与精馏分离相结合,用较小的淋洗量将固体杂质和金属杂质排出,降低了物料消耗和后续系统的处理负荷;从洗涤精馏塔上部出来的洗涤后气中只含有极微量金属杂质,可以减少由于金属杂质沉积对后续系统的堵塞,提高了洗涤精馏塔的操作稳定性和连续性。
另外,根据本实用新型上述示例的用于处理三氯氢硅合成尾气的洗涤精馏塔,还可以具有如下附加的技术特征:
所述人字挡板设有3~5层,各层人字挡板沿塔体轴向交替分布。
所述筛板设有5~10层。
所述筛板的筛孔直径为8~14mm,所述筛板沿塔体轴向分布,且从上至下分布的筛板的筛孔直径依次增大。
所述塔板区内塔板为筛板塔盘或固舌塔盘。
所述塔板设有10~20层。
所述塔体底部设有排液口以排出经过洗涤精馏产生的残液。
所述洗涤精馏塔的操作压力为0.15~0.25MPa。
所述洗涤精馏塔的操作温度为50~90℃。
本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本实用新型的实践了解到。
附图说明
本实用新型的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对示例的描述中将变得明显和容易理解,其中:
图1是根据本实用新型示例的用于处理三氯氢硅合成尾气的洗涤精馏塔的结构示意图;
图2是具有根据本实用新型示例的用于处理三氯氢硅合成尾气的洗涤精馏塔的三氯氢硅合成尾气的处理系统示意图;
图3是根据图2中所述三氯氢硅合成尾气的处理系统的处理方法流程图。
具体实施方式
下面详细描述本实用新型的示例,所述示例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的示例是示例性的,旨在用于解释本实用新型,而不能理解为对本实用新型的限制。
在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。
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