[实用新型]金属有机物化学气相沉积设备喷淋盘的清洁装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其是涉及一种用于金属有机物化学气相沉积设备喷淋盘的清洁装置及清洁方法。

背景技术

化学气相沉积技术（Metal Organic Chemical Vapor Deposition,简称MOCVD）包含了流体力学、传热学、光学、化学、精密机械、真空电子、半导体材料、计算机等多学科。MOCVD设备是一种综合运用各个学科技术的高科技设备，是化合物半导体材料外延生长的理想方法，具有质量高、稳定性好、重复性好、能规模化量产的特点，它已成为生产半导体光电器件的关键核心设备，具有广阔的应用前景和产业化价值。现有的MOCVD设备相当部分在反应腔体中采用喷淋盘，MOCVD设备中的喷淋盘是影响MOCVD外延生长薄膜质量的重要因素。喷淋盘毛细孔是否堵塞直接影响着外延薄膜的均匀性，因为其直接影响气源流的分布，从而影响了薄膜在沉积过程中的均匀性。在外延薄膜生长过程中喷淋盘的出气口会逐渐累积一些杂质，影响出流气体的流动形态，导致薄膜生长过程中难以实现很好的重复性。

目前，清洗MOCVD设备喷淋盘的主要方式是通过手动操作带吸气功能的管式清洁刷，管式清洁刷靠近喷淋盘，经气体的吸力将附着在喷淋盘上的微细颗粒清除。这种清洁喷淋盘的方式操作繁琐，一次操作只能对喷淋盘的局部区域清洗，清洗不均匀，清扫过程中杂物也有可能掉入反应腔，另外由于操作比较繁琐，只能做阶段性的清理操作，不能把整个清洁过程，内嵌在外延工艺程序中。

发明内容

本实用新型的目的是针对已有技术中存在的缺陷,为了克服现有MOCVD设备喷淋盘清洁装置操作繁琐、引入杂质、可重复性差的不足，本实用新型提供一种金属有机物化学气相沉积设备喷淋盘的清洁装置。本实用新型的清洁装置主要包括密封圈2，清扫废物收集盘3，清洁毛刷安装板4，旋转电机5，抽气管路6，抽气装置7，清洁毛刷8，其特征是：清洁毛刷安装板4安装到旋转电机5的旋转轴上，清洁毛刷8固定安装于清洁毛刷安装板4上，清洁毛刷安装板4安装于清扫废物收集盘3内，抽气管路6一端与清扫废物收集盘3连接，另一端与抽气装置7连接。

所述清扫废物收集盘3与喷淋盘1外形相似、大小基本相同，与整个喷淋盘1通过密封圈2进行密封。

本实用新型还提供了用上述的化学气相沉积设备喷淋盘的清洁装置的清洁喷淋盘的方法，在清洁喷淋盘1时，由机械臂将清洁装置移动到喷淋盘1附近，将清洁装置清扫废物收集盘3与喷淋盘1对准、压紧，与整个喷淋盘1通过密封圈2进行密封，装有清洁毛刷8清洁毛刷安装板4跟随旋转电机5旋转同时清洁毛刷8对整个喷淋盘1进行清扫，使喷淋盘1上的附着物，落入清扫废物收集盘3中，再经由抽气装置7将清扫废物收集盘3中的清扫物通过抽气管路6抽到腔体之外，喷淋盘清洗达到要求后，清洗装置与喷淋盘脱离，由机械臂将清洁装置转移回到原来的中转装置处，清洗过程完成。

清扫喷淋盘作为外延生长的一个标准工艺步骤，在每一次外延生长完成后自动对喷淋盘1进行一次清扫。

本实用新型的优点是能够实现清洁过程完全程序控制,在清洁喷淋盘时，不需要打开MOCVD设备的手套箱，就可以对喷淋盘进行整体式的清洁，清洗掉落物落入清洁装置的盛物盘中由抽气装置吸走排出，而且清洁喷淋盘的这一过程可以成为薄膜生长工艺过程的一个标准步骤，从而保证了每一次生长的可重复性。

附图说明

图1为本实用新型化学气相沉积设备喷淋盘的清洁装置的结构意图。

图1中，1是喷淋盘，2是密封圈，3是清扫废物收集盘，4是清洁毛刷安装板，5是旋转电机，6是抽气管路，7抽气装置，8清洁毛刷。

具体实施方式

下面结合附图进一步说明本实用新型的实施例：

实施例一

参见图1，本实用新型的的清洁装置主要包括密封圈2，清扫废物收集盘3，清洁毛刷安装板4，旋转电机5，抽气管路6，抽气装置7，清洁毛刷8，清洁毛刷安装板4安装到旋转电机5的旋转轴上，清洁毛刷8固定安装于清洁毛刷安装板4上，清洁毛刷安装板4安装于清扫废物收集盘3内，清洁毛刷安装板4跟随旋转电机5旋转，清洁毛刷8跟随旋转同时将喷淋盘1上的附着物清扫掉，落入清扫废物收集盘3中。清扫废物收集盘3与喷淋盘1外形相似、大小基本相同，与整个喷淋盘1通过密封圈2进行密封。抽气管路6一端与清扫废物收集盘3连接，另一端与抽气装置7连接，作用是对清扫废物收集盘3进行抽气，将清扫废物收集盘3中的清扫物通过抽气管路6抽到腔体之外。