[实用新型]测距器及化学气相沉积设备

说明书

技术领域

本发明涉及半导体制造技术领域，特别涉及一种测距器及化学气相沉积设备。

背景技术

化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition,CVD）是利用化学反应的方式，反应气体通过气管，从带有多孔的喷淋头（Shower Head）上喷射出来，反应气体在喷淋头和加热器（Heater）之间的空间中被电解离成气浆。气浆中的离子会在置于加热器上的晶圆表面聚合形成固态生成物，从而在晶圆表面的形成一种薄膜沉积技术。反应气体经过数十年的发展，化学气相沉积已经成为目前半导体工艺中，最基本也是最重要的形成薄膜技术之一。

由于喷淋头和加热器之间距离（Spacer）很小，而且距离过大或过小都将影响CVD工艺沉积的薄膜的质量，所以在安装好装置之后，如何精确测量喷淋头和加热器之间距离的大小是个需要解决技术问题。

在现有技术中，在安装设备的过程中，使用揉成团的锡箔纸放在加热器上，然后安装上喷淋头，并盖上反应腔室，此时锡箔纸的厚度将被加热器和喷淋头相互挤压而产生变化，打开反应腔室，取出锡箔纸，用千分尺测量锡箔纸被挤压后的厚度，以此得出喷淋头和加热器之间的距离。由于锡箔纸容易产生形变，使用该方法不仅浪费材料，而且测量得到的结果不够精确，误差较大。

实用新型内容

本实用新型的目的在于：提出一种测距器，能够提高例如化学气相沉积设备中喷淋头和加热器之间的距离的测量精度。

为了实现上述目的，本实用新型提出一种测距器，包括：

一外体，所述外体带有一空腔，内壁上设有卡位部件；

一内体，外表面设有与所述外体卡位部件的相匹配的卡位部件，所述内体下端通过外表面的卡位部件卡接所述外体卡位部件固定在所述空腔的内部。

进一步地，所述空腔为圆柱形。

进一步地，所述空腔深度为1cm~2cm，直径为2.5cm~3.5cm。

进一步地，所述内体包括两个相同的圆柱半体和一位于两个圆柱半体之间并连接两个圆柱半体的固定弹簧。

进一步地，所述圆柱半体的直径为2.5cm~3.5cm，高度为1cm~3cm。

进一步地，所述内体外表面上带有精度为0.1mm~1um的刻度。

进一步地，所述外体的卡位部件包括相向设置于所述空腔内壁上的一对带有锯齿的卡条。

进一步地，所述内体的卡位部件包括固定在所述内体的外侧壁表面与所述卡条位置上的一对带有锯齿的卡带。

进一步地，所述外体上表面和/或顶端边缘上设有标记。

进一步地，还包括一复位弹簧，所述复位弹簧分别与所述内体的底部和所述空腔的内底部固定连接。

进一步地，所述外体和内体的材质均为陶瓷。

本实用新型还提供一种化学气相沉积设备，包括上述的测距器。

进一步地，所述化学气相沉积设备，还包括：

反应腔室；

基座，底部固定在所述反应腔室内的底部；

加热器，固定在所述基座上；

喷淋头，顶部固定在所述反应腔室内的顶部，底部表面与加热器上表面平行并保持一定的距离；

其中，所述测距器，置于所述喷淋头和所述加热器之间，并且所述测距器上表面与所述喷淋头底部表面接触，下表面与所述加热器上表面接触。

进一步地，所述基座通过一体成型的方式与反应腔室固定。

进一步地，所述加热器通过一卡盘和若干螺丝固定在所述基座上端。

进一步地，所喷淋头通过一卡盘和若干螺丝固定在所述反应腔室内顶部。

与现有技术相比，本实用新型提出的测距器及化学气相沉积设备，其有益效果主要体现在：测距器内体和外体顶端间的高度差可以通过内体和外体的卡位部件相互配合，被很好地维持住，从而能够提高测距器测得的两物体之间的距离精度，如化学气相沉积设备中喷淋头和加热器之间的距离精度，减少测量误差；并且内体与外体之间的复位弹簧可以使得测距器复位，方便多次测量。

附图说明

图1为本实用新型实施例一中测距器的结构示意图；

图2为本实用新型实施例一测距器所在化学气相沉积设备的结构示意图；

图3为本实用新型实施例二中测距器的结构示意图。

具体实施方式

为了便于理解，下面结合实施例一、二和附图对本实用新型作进一步的描述。

实施例一

请参考图1，本实施例提供一种测距器500，包括外体510，内体520，卡条530，标记540，卡带550，刻度560。