[实用新型]复合式等离子体表面处理装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种用于对材料进行表面物理化学处理的装置，尤其涉及一种应用于干式气相反应、可用于处理各种材料类型的等离子体表面处理装置。

背景技术

等离子体表面处理技术是指利用等离子体中包含大量的电子，离子及自由基等活性粒子，这些活性粒子碰撞到被处理物体的表面，会发生相应的物理或化学反应，使材料表面的性质发生变化或是赋予新的功能，以达到其处理目的，满足实际应用的需要，是制备新材料的重要方法。等离子体表面处理技术具有节能环保的特点，在新材料领域有着广泛的用途和市场。等离子体表面处理装置是实现等离子体表面处理技术的基本条件和必备基础。

等离子体表面处理装置的研制现状：被处理材料不同，等离子体处理装置必须不同，否则难以进行。目前大量进行等离子体表面处理的材料有卷状薄膜类材料、块状类材料、颗粒或粉状类材料；三类材料进行处理时，必须设计不同的处理腔体，否则不能满足需要。一般情况下，卷状薄膜类材料表面处理：中央竖放电极组，两侧布置收、放料辊，薄膜从电极间穿过；块状类材料：中央平放电极组，样品置于下电极板上；颗粒或粉状类：外置电极，真空腔内部设有转鼓，转鼓内装颗粒或粉状类样品。另外，当对被处理材料进行活化或者接枝时，也必须设计不同的装置结构。目前国内外成熟的产品中，每种等离子体表面处理装置均是针对某种形状的样品，比如适合于处理卷状薄膜类材料的、适合于块状类材料的以及适用于颗粒或粉状类材料的等等，在进行科学研究时受到了较大的限制。这样造成的直接后果是：等离子体表面处理装置闲置时间多、使用成本高、使用效率低。

发明内容

鉴于上述现有技术存在的不足，本实用新型的目的是提出一种复合式等离子体表面处理装置，以解决处理装置应对不同材料类型普适性的问题。

本实用新型的目的，将通过以下技术方案得以实现：复合式等离子体表面处理装置，其特征在于：所述表面处理装置具有一个真空腔，所述真空腔外侧设有可放电在真空腔内侧形成等离子体的外正电极和外负电极，所述真空腔内侧设有放料辊、收料辊、转鼓、内正电极板和内负电极板，其中所述转鼓为可于真空腔内外侧进出切换的容器单元，所述内正电极板和内负电极板为可于水平向及竖直向翻转切换的板件单元，所述外正电极、外负电极、内正电极板和内负电极板外连至电控器。

进一步地，所述真空腔内设有一根以上的导料辊，所述放料辊、导料辊、收料辊形成卷状薄膜材料的传输路径，所述内正电极板和内负电极板分设于传输路径的两侧。

更进一步地，所述导料辊为两根，所述内正电极板和内负电极板分设于两根导料辊连线的两侧。

进一步地，所述转鼓为自转型的容器单元，转鼓在真空腔内侧自转。

更进一步地，所述转鼓设有伸缩驱动机构，用于带动转鼓伸出真空腔或缩回真空腔。

本实用新型处理装置的应用效果为：突破了不同材料类型及本身形状的限制，增广了适用范围；并且，切换操作简便，提高了处理装置的整体利用率，降低了生产成本，实现了生产自动化。

附图说明

图1是本实用新型多功能等离子体表面处理装置一较佳实施例的结构示意图。

图2是图1所示实施例的实施方式一的原理示意图。

图3是图1所示实施例的实施方式二的原理示意图。

图4是图1所示实施例的实施方式三的原理示意图。

具体实施方式

如何解决现有等离子体表面处理装置存在的这些弊端？解决的方案为：针对当前等离子体表面处理装置存在的不足，充分满足材料研究者对等离子体表面处理装置的需求，开发具有多功能的等离子体表面处理装置，既同一种装置可以处理具有不同形状的样品，包括卷状薄膜类、块状类、颗粒或粉状类材料等，使该装置处理结构功能高度集成，即不同类型的被处理材料，只需要选择不同的处理装置结构，即可完成。

以下便结合实施例附图，对本实用新型的具体实施方式作进一步的详述，以使本实用新型技术方案更易于理解、掌握。

如图1所示，是本实用新型多功能等离子体表面处理装置一较佳实施例的结构示意图。从图示可见，该表面处理装置具有一个真空腔1，真空腔1外侧设有可放电在真空腔内侧形成等离子体的外正电极21和外负电极22，真空腔内侧设有放料辊41、收料辊42、转鼓5、内正电极板31和内负电极板32，其中转鼓5为可于真空腔1内外侧进出切换的容器单元，内正电极板31和内负电极板32为可于水平向及竖直向翻转切换的板件单元，该外正电极、外负电极、内正电极板和内负电极板外连至电控器，分别上电受控。