[实用新型]薄膜形成装置

权利要求书

1.一种薄膜形成装置，其具备：真空槽；蒸镀机构，其收纳在该真空槽内；和基板保持部件，其在比所述蒸镀机构靠上方的位置收纳在所述真空槽内，所述薄膜形成装置的特征在于，

在所述基板保持部件的外周部和所述真空槽的内壁面之间的间隙内，配置有从所述基板保持部件外周部向所述真空槽内壁面延伸出的密封部。

2.根据权利要求1所述的薄膜形成装置，其特征在于，

所述密封部具备圆形的外缘，该外缘接近所述真空槽的内壁面。

3.根据权利要求2所述的薄膜形成装置，其特征在于，

所述基板保持部件的外周部为所述基板保持部件的下部，

所述基板保持部件的下部形成为越位于所述基板保持部件的下端侧、外缘越扩大的形状，

所述密封部安装于所述基板保持部件的下端面。

4.根据权利要求1至3中的任意一项所述的薄膜形成装置，其特征在于，

所述密封部被安装成相对于所述基板保持部件的外周部能够装卸。