[实用新型]薄膜形成装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及薄膜形成装置，特别涉及在真空槽内具备基板保持部件的薄膜形成装置。

背景技术

近年来，如平板电脑、PC（个人电脑）、平板电视机及智能手机等，利用光学薄膜的技术涉及多方面。与此相伴，对于在方形基板、特别是大型方形基板形成抗反射膜或抗污膜的镀膜技术的需求提高。

另一方面，作为镀膜方法，已知有蒸镀法和溅镀法，采用这些方法的镀膜处理通常在将基板安装于真空槽内的状态下进行。当在真空槽内的预定位置保持基板时，使用了支架或夹具等保持部件，但出于提高在基板形成的薄膜的膜厚的均一性的目的，通常，所述保持部件在对基板进行保持的状态下在真空槽内旋转（例如，参照专利文献1）。

专利文献1所述的真空镀膜装置具备真空室，在所述真空室内，在溅镀蒸镀源的上方以旋转自如的方式设有圆形的基板支架，在所述基板支架安装有供薄膜形成的基板。由此，在被基板支架保持的多个基板之间，能够实现镀膜厚度的平均化。

专利文献1：日本特许公开平10-158814号公报

但是，对于保持方形基板的保持部件的形状，出于更加有效地确保用于保持基板的面积的观点，优选为方形形状。但是，如果采用方形形状的保持部件，将不可避免地在保持部件的外周部和真空槽的内壁面之间产生间隙。如果在产生了这种间隙的状态下实行镀膜处理，则从蒸镀源放出的蒸镀材料的粒子有可能通过间隙而绕到真空槽的内部空间中的比保持有基板的位置靠后侧的位置。其结果是，真空槽内被污染，进而以槽内污染为原因，在基板的镀膜面产生颗粒，或者产生排气时间增加等不良情况。此外，绕到基板的保持位置的后侧的蒸镀材料的粒子有附着在基板背面的可能。

作为针对以上问题的对策，考虑使所述保持部件的外缘成为与真空槽的内壁面配合的形状，即圆形，但在更加有效地确保用于保持基板的面积的观点下，圆形不及方形形状。此外，对于外缘为圆的保持部件，与方形的保持部件相比，有未对基板进行保持的部分，相应地重量和尺寸增加。因此，对于外缘为圆的保持部件，由于需要加强结构、或者在如串联式（インライン方式）的镀膜装置那样具备用于运送保持部件的机构的情况下该运送机构大型化等理由，导致镀膜装置的制造成本提高。

实用新型内容

因此，本实用新型是鉴于上述问题而完成的，其目的在于提供一种薄膜形成装置，其能够抑制由于蒸镀材料的粒子通过基板保持部件的外周部与真空槽的内壁面之间的间隙而导致真空槽内被污染这一情况。

所述课题通过以下方式解决：根据本实用新型的薄膜形成装置，其具备：真空槽；蒸镀机构，其收纳在该真空槽内；和基板保持部件，其在比所述蒸镀机构靠上方的位置收纳在所述真空槽内，在所述薄膜形成装置中，在所述基板保持部件的外周部和所述真空槽的内壁面之间的间隙内，配置有从所述基板保持部件外周部向所述真空槽内壁面延伸出的密封部。

在所述薄膜形成装置中，密封部对基板保持部件的外周部和真空槽的内壁面之间的间隙进行密封，因此能够切断蒸镀材料向该间隙的流入，使得从蒸镀机构放出的蒸镀材料无法通过所述间隙。因此，若为本实用新型的技术方案1所述的薄膜形成装置，则能够抑制由于蒸镀材料的粒子通过所述间隙而导致真空槽内被污染这一情况。

此外，在技术方案1所述的薄膜形成装置中，密封部安装在基板保持部件侧，因此密封部的设置位置根据槽内的基板保持部件的设置位置来决定。因此，若为技术方案1所述的结构，则在确保基板保持部件的设置位置的自由度的同时，能够恰当地设置密封部。

此外，在技术方案1所述的薄膜形成装置中，进一步优选为，所述密封部具备圆形的外缘，该外缘接近所述真空槽的内壁面。

在以上的结构中，密封部的外缘接近真空槽的内壁面，因此若为技术方案2所述的结构，则密封部能够将基板保持部件的外周部和真空槽的内壁面之间的间隙良好地密封起来。

此外，在技术方案2所述的薄膜形成装置中，进一步优选为，所述基板保持部件的外周部为所述基板保持部件的下部，所述基板保持部件的下部形成为越位于所述基板保持部件的下端侧、外缘越扩大的形状，所述密封部安装于所述基板保持部件的下端面。

在基板保持部件的下部不扩大而是向下方笔直延伸的情况下，越是离基板保持部件近的基板，蒸镀材料的粒子越难以附着，此外，由基板保持部件弹回的蒸镀材料的粒子附着于所述基板，有可能无法获得期望的膜厚。对此，若为技术方案3所述的结构，则基板保持部件的下部越朝向下方越扩大，因此蒸镀材料的粒子也能够恰当地附着在离基板保持部件近的基板，另一方面，能够抑制弹回的蒸镀材料的粒子的附着。