[实用新型]化学机械研磨头

权利要求书

1.一种化学机械研磨头，包括本体、夹具和隔膜组，所述隔膜组用于吸附晶圆，所述本体设于所述隔膜组上方，所述本体与所述隔膜组间通过连接件连接并具有第一间隙，所述夹具以间隔第二间隙的距离围绕所述隔膜组并定位所述晶圆，所述第一间隙和第二间隙相连通；其特征在于，所述本体中设有清洗通道，所述清洗通道贯穿所述本体并具有至少一个朝向所述第一间隙的出液口。

2.如权利要求1所述的化学机械研磨头，其特征在于，所述清洗通道的出液口为多个，且均匀分布。

3.如权利要求1或2所述的化学机械研磨头，其特征在于，所述清洗通道中铺设有清洗液管道，所述清洗液管道的出液口具有液体导向性结构。

4.如权利要求3所述的化学机械研磨头，其特征在于，所述本体的上表面具有起清洗液入口作用的第一凹槽，所述清洗通道进液端位于所述第一凹槽的底部。

5.如权利要求4所述的化学机械研磨头，其特征在于，所述本体呈圆柱形，所述第一凹槽呈圆环柱形并与所述本体同轴心，所述第一凹槽中所述清洗通道进液端成对设置，并关于所述轴心对称。

6.如权利要求5所述的化学机械研磨头，其特征在于，所述清洗通道进液端为4个。

7.如权利要求1所述的化学机械研磨头，其特征在于，所述清洗通道包括第一清洗通道和第二清洗通道，所述第一清洗通道和第二清洗通道相隔一定的距离设置，所述清洗通道的出液口为多个，且均匀分布。

8.如权利要求7所述的化学机械研磨头，其特征在于，所述第一清洗通道出液口靠近所述连接件设置，所述第二清洗通道出液口靠近所述夹具设置。

9.如权利要求7所述的化学机械研磨头，其特征在于，所述第一清洗通道和所述第二清洗通道具有共用的起始部。

10.如权利要求7或8所述的化学机械研磨头，其特征在于，所述第一清洗通道和所述第二清洗通道中铺设有清洗液管道，所述清洗液管道的出液口具有液体导向性结构。

11.如权利要求10所述的化学机械研磨头，其特征在于，所述本体的上表面具有起清洗液入口作用的第一凹槽和第二凹槽，所述第一清洗通道进液端位于所述第一凹槽的底部，所述第二清洗通道进液端位于所述第二凹槽的底部。

12.如权利要求11所述的化学机械研磨头，其特征在于，所述本体呈圆柱形，所述第一、第二凹槽呈圆环柱形槽并与所述本体同轴心，所述第二凹槽环绕于所述第一凹槽的外围。