[实用新型]一种能够装卸的新型石墨沉积槽

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种沉积槽，尤其是涉及一种能够装卸的新型石墨沉积槽，属于镀膜设备。

背景技术

为了使化学反应能在较低的温度下进行，常利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积(PECVD)。在现有的PECVD设备中，为控制镀膜沉积的方向，防止生成的镀膜物质沉积在气体源管路及腐蚀管道以及减少气体源消耗等问题，常常使用沉积槽。现有的沉积槽主要分为两种：不锈钢金属沉积槽、石墨沉积槽。采用不锈钢金属制作而成，通常采用焊接或者弯折而成。不锈钢沉积槽因热胀冷缩膨胀系数和常规的镀膜物质（如SiNx）的差异很大，造成严重的掉渣问题，影响镀膜的质量。个别还采用表面喷砂处理，增加表面粗糙度，提高吸附镀膜物质的能力。

传统石墨沉积槽为一体结构，石墨沉积槽的膨胀系数和常规镀膜物质的膨胀系数接近，能很好的减少因热胀冷缩引起的掉渣问题。石墨纤维板和常见镀膜物质（如SiNx）的膨胀系数接近，表面粗糙度很好。现有石墨沉积槽镀膜效果很好，但制作工艺复杂，成本高；其结构复杂，不便于后期清理；且如果部分损坏必须全部更换，维护成本高。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服上述现有技术的缺点和不足，提供一种能够装卸的新型石墨沉积槽，该沉积槽采用支撑装置和几个独立的石墨挡板组合而成，石墨挡板制作工艺简单，成本低，镀膜质量稳定；另外石墨挡板可拆卸，清理维护也更为简便；如果其中一块损坏，更换损坏的挡板即可，不需要更换整个沉积槽，节省了更换时间。

本实用新型的目的通过下述技术方案实现：一种能够装卸的新型石墨沉积槽，包括支撑装置以及设置在支撑装置内部的沉积槽，所述支撑装置包括若干个U型支撑架， U型支撑架串联为纵行结构，且U型支撑架的外部设置有两条平行的支撑棍，支撑棍与对应的U型支撑架的端头连接；沉积槽设置在U型支撑架内部，所述沉积槽包括依次连接为U型的底板、侧板以及顶板，且底板设置在U型支撑架的底部，侧板设置在U型支撑架的侧壁上，顶板设置在U型支撑架的开口端上，且底板和侧板上设置有气孔。

进一步地，所述底板、侧板以及顶板均通过螺钉或者卡扣固定在U型支撑架上对应的位置。螺钉或者卡扣等能够方便U型支撑架的装卸，也可以通过其它的方式固定。

进一步地，所述U型支撑架的外壁上设置有稳定棍，稳定棍设置在支撑棍的下方且与支撑棍平行。稳定棍采用钢管或者其它金属材料制成，用于对U型支撑架的外壁提供支撑，保持在工作过程中的稳定性。

进一步地，所述沉积槽采用石墨纤维板制成。石墨纤维板由于其吸附镀膜物质的能力很好，最为优先选用。

综上所述，本实用新型的有益效果是：该沉积槽采用支撑装置和几个独立的石墨挡板组合而成，石墨挡板可拆卸，节省了更换时间，大大降低了石墨沉积槽的使用和维护成本，且镀膜质量稳定。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。

附图中标记及相应的零部件名称：1—气孔；2—侧板；3—顶板；4—稳定棍；5—支撑棍；6—底板；7—U型支撑架。

具体实施方式

下面结合实施例及附图，对本实用新型作进一步的详细说明，但本实用新型的实施方式不仅限于此。

实施例：

如图1所示，一种能够装卸的新型石墨沉积槽，包括支撑装置以及设置在支撑装置内部的沉积槽，所述支撑装置包括若干个U型支撑架7，U型支撑架7串联为纵行结构，且U型支撑架7的外部设置有两条平行的支撑棍5，支撑棍5与对应的U型支撑架7的端头连接；沉积槽设置在U型支撑架7内部，所述沉积槽包括依次连接为U型的底板6、侧板2以及顶板3，且底板6设置在U型支撑架7的底部，侧板2设置在U型支撑架7的侧壁上，顶板3设置在U型支撑架7的开口端上，且底板6和侧板2上设置有气孔1。在底板6和两个侧板2上均匀分布着气孔1，气孔1既可以是呈一条直线分布，也可以是均匀散状分布，用于提供气体源，生成镀膜物质。支撑装置是对沉积槽起固定作用的装置，用于保证几块独立的石墨纤维板在安装后不会脱落，增加稳定性。同时降低了成本，能够多次利用，保证了工作时的镀膜稳定，提高了产品质量。

所述底板6、侧板2以及顶板3均通过螺钉或者卡扣固定在U型支撑架7上对应的位置。采用凸台与凹槽的安装方式，能够便于沉积槽的装卸，也可以采用螺钉或者其他方式进行固定，只要能保证沉积槽的顺利装卸都是在本实用新型的保护范围。