[实用新型]一种新型显影喷淋机构

说明书

技术领域

本实用新型涉及喷液显影领域，尤其是涉及一种显影喷淋机构。

背景技术

采用电铸或蚀刻工艺制作印刷线路掩模板的前期工作一般涉及到以下工序：即基板贴干膜→曝光→显影。一般掩模板开口要求孔壁光滑，尺寸精密，只有保证开口，掩模板才能在使用中有很好的印刷效果。高精密掩模板的制作要求在掩膜板制作过程中每一个环节都能做到较高精度，其中在显影环节中显影的质量对后续工序的影响非常大，因此在显影过程中要求显影机的显影能力均匀稳定。

传统显影机喷淋装置的上喷管阵列由若干相互平行且等间距排列的上喷管构成，喷管横截面与显影机的传送方向平行且垂直于传送面，上喷管上等间距设置有等间距排布的多个喷嘴，所有喷嘴构成一个方形喷淋区，需要显影的基板沿显影机传送方向进入方形喷淋区域，由于“水池效应”等效应的存在，基板两侧区域的显影速度相对中间区域显影速度更快。这种显影方式易造成基板两侧区域与中间区域的显影不均匀，特别是在基板的上表面，由此会造成操作人员不易把握显影点，从而导致基板上干膜显影不足或显影过度，影响最终产品质量。因此，业界需要设计出更合理的显影喷淋装置。

实用新型内容

本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本实用新型的一个目的在于提出一种新型显影喷淋机构，所述新型显影喷淋机构可有效降低“水池效应”影响，使显影效果更加均匀，便于操作员对显影点的把握，从而制备结构要求更加精密的掩膜板产品。

根据实用新型实施例的一种新型显影喷淋机构，包括：由多种喷嘴排列结构不同的且相互平行规则排列的上喷管组成的上喷管阵列和喷嘴。

喷液通过外界设备输入上喷管组成的上喷管阵列，并通过喷嘴向下喷出显影液，由于上喷管阵列由多种相互平行且规则排布的上喷管组成而组成上喷管阵列的上喷管上的喷嘴也排列规则，使喷嘴喷出的显影液形成的覆盖区域的显影液流速及浓度都不相同，由此，可有效降低“水池效应”影响，使显影效果更加均匀，制备更精密的掩膜板产品。

优选地，所述上喷管阵列由两种所述喷嘴排列结构不同且等间距相间排布的上喷管组成。

另外，根据本实用新型的新型显影喷淋机构还具有如下附加技术特征：

所述上喷管横截面平行显影传送方向且垂直于显影传送面。

所述喷嘴向下并垂直传送平面且数量至少1个。

由此，可以保证喷嘴喷出的显影液能够直接垂直的喷淋到待显影的基板。

所述喷嘴为中间喷嘴分布密度大于两侧喷嘴分布密度，且两侧喷嘴的位置对称规则排布。

优选地，所述喷嘴由中间往两侧的相邻喷嘴间距值构成等差数列。

由此，可以增加上喷管阵列中部的喷淋量，降低上喷管阵列边缘的喷淋量，有效地降低喷淋过程中产生的“水池效应”。

所述喷嘴在不同结构上喷管上的位置在显影传送方向上相互错开。

由此，使喷嘴在显影传送方向上的显影液喷淋覆盖区域更加均匀，可以进一步降低喷淋过程中产生的“水池效应”。

所述喷嘴的喷液形状为实心锥体、虚心椎体或扇面形状，且所述喷嘴喷出喷液存在重合区域。

由此，可以避免喷嘴喷淋区域出现非重合区域，避免出现喷淋区域显影液覆盖不均匀的可能。

所述新型显影喷淋机构还包括支撑部件。

本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本实用新型的实践了解到。

附图说明

本实用新型的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1为一种传统显影机上喷管阵列排布示意图；

图2为根据本实用新型的一个实施例的上喷管阵列排布示意图；

图3为根据本实用新型的另一实施例的上喷管阵列排布示意图；

图4是图3所示的新型显影喷淋机构的A—A′方向示意图；

图5是图3所示新型显影喷淋机构正面A—A′方向示意图和

图6是图3所示的新型显影喷淋机构的喷管喷液时的示意图。

具体实施方式

下面详细描述本实用新型的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本实用新型，而不能理解为对本实用新型的限制。