[实用新型]非接触式清洗机

说明书

技术领域

本实用新型涉及清洗机领域，尤其涉及一种非接触式清洗机。

背景技术

清洗机是一种用来清洗基体上的尘埃、毛发、粉末、蒸气、烟雾等颗粒，以及有机物和水渍的，被清洗的基板一般都是由接触式的滚轮搬送，在清洗机的清洗设备中移动，在FPD业界搬送玻璃基板，全部都是接触式滚轮搬送，现在这个搬送方法也成为了主流。但是该种搬运方式具有明显的缺点，1、在清洗基板上有可能留下滚轮痕；2、可能对轻于0.5t的清洗基板搬送不良。

实用新型内容

本实用新型旨在提供一种不会留下滚轮痕和能够搬送较轻的清洗基板的非接触式清洗机。

为了实现上述目的，本实用新型提出的一种技术方案为：一种非接触式清洗机，包括清洗设备，该清洗设备设有基于纯水顶上压力、表面张力，以及应用高压空气，将清洗基板浮起的浮起装置和垂直于清洗基板端面的用于搬送清洗基板的滚轮，该清洗设备设有依次相邻的超声波清洗装置和洗濯装置。

优选地，所述清洗设备还包括位于所述超声波清洗装置前面的电解水清洗装置。

优选地，所述电解水清洗装置和超声波清洗装置之间设有水蒸气清洗装置和/或刷子清洗装置。

优选地，所述清洗设备的洗濯装置连接一利用风刀的干燥设备，该干燥设备设有基于空气顶升压力的空气浮起装置。

优选地，所述清洗设备两边设有可调整的玻璃挡板。

本实用新型的有益效果为：区别于现有清洗机将清洗基体与滚轮传送机构接触传送，在清洗基板上有可能留下滚轮痕和可能对轻于0.5t的清洗基板搬送不良，本实用新型的的非接触式清洗机，在清洗设备中设置有基于纯水顶上压力、表面张力，以及应用高压空气，将清洗基板浮起的水浮起装置和垂直于清洗基板端面的用于搬送清洗基板的滚轮，这样可以使清洗基板只与清洗液接触，同时由滚轮推动清洗基板的端面进行移动，这样就可以，1、不会在清洗基体上留有滚轮痕；2、有利于搬送薄板分量轻（0.5t以下）的清洗基板；3、纯水使用量少，可应用使用药液的程序；4、可应用使用药液的工序，处理效果均一；5、可均一清洗表里两面。

附图说明

图1为本实用新型的非接触式清洗剂的结构示意图。

本实用新型目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。

具体实施方式

下面结合附图及具体实施例就本实用新型的技术方案做进一步的说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

本实用新型提出一种非接触式清洗机。

参照图1，图1为非接触式清洗剂的结构示意图。

在本实用新型的实施例中，一种非接触式清洗机，包括清洗设备，该清洗设备设有基于纯水顶上压力、表面张力，以及应用高压空气，将清洗基板浮起的水浮起装置6和垂直于清洗基板端面的用于搬送清洗基板的滚轮（图中未示出），该清洗设备设有依次相邻的超声波清洗装置4和洗濯装置5。当然在清洗设备前会有一个入口，该入口一般使用基于高压空气顶升压力的空气浮起装置。

在清洗设备中设置有基于纯水顶上压力和表面张力将清洗基板浮起的水浮起装置6和垂直于清洗基板端面的用于搬送清洗基板的滚轮，这样可以使清洗基板只与清洗液接触，同时由滚轮推动清洗基板的端面进行移动，这样，一、不会在清洗基体上留有滚轮痕；二、有利于搬送薄板分量轻（0.5t以下）的清洗基板，在本实施例中，最轻可以清洗0.1t的清洗基板而不会出现运送不良的情况；三、纯水使用量少，可应用使用药液的程序；四、可应用使用药液的工序，处理效果均一；五、可均一清洗表里两面；六、排除喷雾程序的液体不飞散的WET处理设备。

在上述实施例中，所述清洗设备还包括位于所述超声波清洗装置4前面的电解水清洗装置1。取决于单片板，Cell Panel等的清洗基板种类，在超声波清洗前阶段，设置电解水处理工序，从而使得可以轻松剥下清洗基板的玻璃碎片和颗粒。

在上述实施例中，所述电解水清洗装置1和超声波清洗装置4之间设有水蒸气清洗装置2和/或刷子清洗装置3，这样可以对不同清洗基板的种类，进行对应的清洗工序，可清洗的更加干净和彻底。

在上述实施例中，所述清洗设备的洗濯装置5连接一利用风刀的干燥设备7，该干燥设备7设有基于空气顶升压力的空气浮起装置8，同样是可以防止在清洗基板上留下滚痕。

在上述实施例中，所述清洗设备两边设有可调整的玻璃挡板，这样可以根据清洗基板的宽度，进行调整。调整机构一般是采用齿轮联动机构，可以通过手摇或马达驱动来实现动力的输入，使两边的玻璃挡板相对的运动。