[实用新型]阵列基板、显示装置和线宽测量装置有效
申请号: | 201220620090.0 | 申请日: | 2012-11-21 |
公开(公告)号: | CN202870441U | 公开(公告)日: | 2013-04-10 |
发明(设计)人: | 刘耀;孙亮;丁向前;李梁梁;白金超 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1362 | 分类号: | G02F1/1362;G02F1/1343;G02F1/13;H01L27/02;G01B21/02 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 阵列 显示装置 测量 装置 | ||
1.一种阵列基板,包括:透明基板,设置在所述透明基板上的栅金属层、栅绝缘层、有源层、源漏金属层以及钝化层;其中,所述栅金属层包括:栅线和栅极的图案,所述源漏金属层包括:数据线、源极、漏极的图案;所述阵列基板还包括:设置在像素区域内的第一条状电极和设置在线宽测量区的第二条状电极;其特征在于,还包括:
设置在所述线宽测量区的不透明图案,所述不透明图案位于所述第二条状电极的下方且至少一个第二条状电极的部分两侧边界位于所述不透明图案所在的区域内;
所述钝化层至少覆盖所述像素区域。
2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,
所述不透明图案与所述栅线和栅极的图案同层设置;或,所述不透明图案与所述数据线、源极、漏极的图案同层设置。
3.根据权利要求1或2所述的阵列基板,其特征在于,
所述不透明图案覆盖整个所述线宽测量区。
4.根据权利要求1或2所述的阵列基板,其特征在于,所述钝化层只覆盖所述像素区域。
5.一种显示装置,其特征在于,包括对盒后的彩膜基板和阵列基板,其特征在于,所述阵列基板为上述权利要求1~4任意一项所述的阵列基板。
6.一种线宽测量装置,其特征在于,包括:
测量单元,用于测量获得线宽测量区任一第二条状电极的宽度值CD1,所述第二条状电极的上侧边界到其下侧沟道中与所述第二条状电极不相邻的边界的宽度值CD2以及所述第二条状电极的下侧边界到其上侧沟道中与所述第二条状电极不相邻的边界的宽度值CD3;
比较处理单元,用于在所述测量单元测量得到的CD2和CD3满足以下条件:目标值-波动值<CD2<目标值+波动值且目标值-波动值<CD3<目标值+波动值时,确定所述CD1为线宽测量准确值;在所述CD2和CD3不满足所述条件时,确定所述CD1不准确。
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