[实用新型]一种RF-CMOS工艺的光通信跨阻放大器的版图结构有效

专利信息
申请号: 201220622498.1 申请日: 2012-11-22
公开(公告)号: CN203057079U 公开(公告)日: 2013-07-10
发明(设计)人: 莫太山;唐思敏 申请(专利权)人: 嘉兴泰鼎光电集成电路有限公司
主分类号: H03F3/08 分类号: H03F3/08
代理公司: 杭州浙科专利事务所(普通合伙) 33213 代理人: 吴秉中;陶圣如
地址: 314100 浙江省嘉兴市嘉善*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 rf cmos 工艺 光通信 放大器 版图 结构
【权利要求书】:

1.一种RF-CMOS工艺的光通信跨阻放大器的版图结构,其特征在于,包括第一版图区(001)、第二版图区(002)、第三版图区(003)、第四版图区(004)、第五版图区(005)、第六版图区(006)、第七版图区(007)、第八版图区(008)、第九版图区(009)、第十版图区(010)、第十一版图区(011)、第十二版图区(012)、第十三版图区(013)、第十四版图区(014)、第十五版图区(015)、第十六版图区(016)、第十七版图区(017)和第十八版图区(018);所述第十七版图区(017)、第十五版图区(015)、第十二版图区(012)和第十一版图区(011)依次相连位于所述跨阻放大器版图结构的上部;所述第九版图区(009)、第十版图区(010)、第三版图区(003)和第一版图区(001)依次相连位于所述跨阻放大器版图结构的中上部;所述第八版图区(008)位于所述跨阻放大器版图结构的中部;所述第十四版图区(014)、第六版图区(006)和第七版图区(007)依次相连位于所述跨阻放大器版图结构的中下部;所述第十六版图区(016)、第十三版图区(013)、第五版图区(005)、第四版图区(004)和第二版图区(002)依次相连位于所述跨阻放大器版图结构的下部;所述第十八版图区(018)位于所述跨阻放大器版图结构的四周。

2.如权利要求1所述的一种RF-CMOS工艺的光通信跨阻放大器的版图结构,其特征在于,作为核心板块的第七版图区(007)设置于跨阻放大器版图结构的中心位置,且与作为供电模块的第四版图区(004)紧密相连。

3.如权利要求1或2所述的一种RF-CMOS工艺的光通信跨阻放大器的版图结构,其特征在于,所述第八版图区(008)与所述第九版图区(009)紧密相连。

4.如权利要求1所述的一种RF-CMOS工艺的光通信跨阻放大器的版图结构,其特征在于,所述第七版图区(007)包括跨阻放大器电路;第八版图区(008)包括单转双差分电路;第十五版图区(015)和第十三版图区(013)包括输出级驱动电路。

5.如权利要求1所述的一种RF-CMOS工艺的光通信跨阻放大器的版图结构,其特征在于,所述第十五版图区(015)和第十三版图区(013)呈对称分布;所述第八版图区(008)到第十五版图区(015)的距离与到第十三版图区(013)的距离相同。

6.如权利要求1所述的一种RF-CMOS工艺的光通信跨阻放大器的版图结构,其特征在于,所述第九版图区(009)包括自动增益控制电路,且第九版图区(009)设置在主通道的信号走向上。

7.如权利要求1所述的一种RF-CMOS工艺的光通信跨阻放大器的版图结构,其特征在于,第十一版图区(011)、第十版图区(010)和第一版图区(001)包括直流失调消除电路;第五版图区(005)包括光电二极管电流检测电路;第二版图区(002)、第三版图区(003)、第四版图区(004)、第十四版图区(014)、第十六版图区(016)和第十七版图区(017)包括电压调整电路;第十三版图区(013)和第十五版图区(015)包括输出级驱动电路;第九版图区(009)包括自动增益控制电路;第十二版图区(012)和第六版图区(006)包括静噪电路和逻辑控制电路;第十八版图区(018)包括过压保护电路。

8.如权利要求1所述的一种RF-CMOS工艺的光通信跨阻放大器的版图结构,其特征在于,所述第十八版图区(018)包括芯片的12个输入输出引线端、probe探针测试点和滤波电容。

9.如权利要求8所述的一种RF-CMOS工艺的光通信跨阻放大器的版图结构,其特征在于,所述第十八版图区(018)的12个输入输出引线端和probe探针测试点设置于芯片四周。

10.如权利要求8或9所述的一种RF-CMOS工艺的光通信跨阻放大器的版图结构,其特征在于,所述第十八版图区(018)的输入输出引线端设置有静电保护电路和压焊垫。

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