[实用新型]一种电容式触摸屏双面镀膜磁控溅射生产线

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种电容式触摸屏双面镀膜磁控溅射生产线。 

背景技术

电容式触摸屏是在玻璃表面镀上一层透明的特殊导电物质。当手指触摸在玻璃上时，触点的电容就会发生变化，使得与之相连的振荡器频率发生变化，通过测量频率变化可以获得确定的触摸位置信息。电容屏的工作原理是：电容式触摸屏在触摸屏四边均镀上狭长的电极，在导电体内形成一个低电压交流电场。在触摸屏幕时，由于人体电场，手指与导体层间会形成一个耦合电容，四边电极发出的电流会流向触点，而电流强弱与手指到电极的距离成正比，位于触摸屏幕后的控制器便会计算电流的比例及强弱，准确算出触摸点的位置。电容触摸屏的双玻璃不但能保护导体及感应器，更有效地防止外在环境因素对触摸屏造成影响，就算屏幕沾有污秽、尘埃或油渍，电容式触摸屏依然能准确算出触摸位置。 

近年来，由于电容式触摸屏具有抗损伤、耐划伤、易清洁、灵敏度高、可以实现多触点工作和可开发性强的特点；美国苹果公司（Apple）、韩国三星公司（Samsung）、芬兰诺基亚（Nokia）、中国联想（Lenovo）和中国中兴（ZTE）等手机厂商大量采用触摸屏技术。触摸屏的需求量巨大，而现有的生产触摸屏镀膜玻璃的生产线大都不能批量化连续的生产，生产效率低下，难以满足市场需求。 

触摸屏结构内具有以下几种薄膜和相应的镀膜方式： 

1、氧化铟锡（ITO）透明导电层，采用直流磁控溅射镀膜方式；

2、钼铝钼（MoAlMo）复合金属电极层，采用直流磁控溅射镀膜方式；

3、氧化铌（Nb2O5）光学介质层，采用中频磁控溅射镀膜方式；

4、氧化硅（SiO2）光学介质层，采用中频磁控溅射镀膜方式；

5、双面氧化铟锡（ITO）镀膜技术；

6、双面氧化铌（Nb2O5）光学介质层和氧化硅（SiO2）光学介质层镀膜技术。

    现有的生产触摸屏镀膜玻璃的生产线大都只能满足一种薄膜材料的镀膜，而不能同时满足多种薄膜材料镀膜的不同工艺的要求，因此生产不同的镀膜触摸屏，需要不同的生产线，成本高，不仅如此，最近由于触摸屏结构设计的进步，采用了一种双面透明导电膜玻璃，需要同时进行双面溅射镀ITO透明导电膜，原有的生产线并不能满足同时进行双面沉积镀膜的溅射沉积工艺。 

实用新型内容

    为了解决上述问题，本实用新型提供了一种电容式触摸屏双面镀膜磁控溅射生产线，实现了电容式触摸屏玻璃双面同时镀膜的批量连续生产工艺，且一条生产线不仅可满足单面生产线的工艺，同时可以进行单片玻璃双面镀膜。 

本实用新型采用的技术方案是：包括多个真空腔体和多个腔体支架，所述的真空腔体安装在腔体支架上，内部设有内传送系统，真空腔体依次分为进口真空段、进口缓冲真空段、进口过渡真空段、工艺镀膜真空段、出口过渡真空段、出口缓冲真空段和出口真空段七段； 

所述的进口真空段，进口处设有翻板阀，两侧设有腔体维修门，附近设有由机械泵与罗兹泵组成的前级抽气系统，前级抽气系统通过抽气管道与进口真空段的底部连接；

所述的进口缓冲真空段与进口真空段连接处设有翻板阀或插板阀，进口缓冲真空段一侧设有六位二装分子泵高真空抽气系统，另一侧设有六位一装分子泵高真空抽气系统，进口缓冲真空段的底部通过分子泵抽气连接耦合器分别与前级抽气连接管道、六位二装分子泵高真空抽气系统和六位一装分子泵高真空抽气系统连接；进口缓冲真空段附近设有由机械泵与罗兹泵组成的前级抽气系统，前级抽气系统通过抽气管道与前级抽气连接管道连接；

所述的进口过渡真空段与进口缓冲真空段连接处设有翻板阀或插板阀，进口过渡真空段的两侧各安装有六位一装分子泵高真空抽气系统一组，六位一装分子泵高真空抽气系统错位布置，进口过渡真空段的底部通过分子泵抽气连接耦合器分别与分子泵高真空抽气系统和抽气连接管道连接；

所述的工艺镀膜真空段包括多个工艺真空模块和至少一个工艺隔离真空模块，真空隔离模块的一侧安装有六位三装分子泵门，另一侧安装有六位二装分子泵门；真空隔离模块底部通过分子泵抽气连接耦合器分别与六位三装分子泵门、六位二装分子泵门和抽气连接管道连接；每个工艺真空模块的两侧均安装有三位一装分子泵门和双阴极门，两侧的三位一装分子泵门与双阴极门错位布置，工艺真空模块的底部通过分子泵抽气连接耦合器分别与三位一装分子泵门和抽气连接管道连接；工艺镀膜真空段附近设有由机械泵与罗兹泵组成的前级抽气系统；前级抽气系统通过抽气管道与抽气连接管道连通；