[实用新型]一种玻璃基板清洗单元

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种用于AMOLED（有源矩阵发光显示器）制程中N₂退火炉及快速退火前的玻璃基板清洗单元。

背景技术

AMOLED制程对洁净度要求极为苛刻，颗粒对产品性能、良率影响很大，快速退火、N₂退火等制程前均需对玻璃基板进行清洗，减少玻璃基板上的颗粒，降低产品出现缺陷或不良的几率，从而提高产品性能和良率。现有AMOLED制程中的清洗机，其清洗单元的喷嘴与玻璃基板垂直，易于清洗掉较大的颗粒，对较小颗粒的去除率较差，且残留在玻璃基板上的颗粒随玻璃基板的传送进入相邻的腔室，造成了对相邻腔室的污染。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种清洗效果好的玻璃基板清洗单元。

为达到上述目的，本实用新型采用了以下技术方案。

包括与传送入腔室内的玻璃基板相对设置的主清洗喷嘴和副清洗喷嘴，所述主清洗喷嘴排布于腔室的前段，副清洗喷嘴排布于腔室的后段，副清洗喷嘴的喷射出口方向与玻璃基板的传送方向之间的夹角a小于90度。

所述副清洗喷嘴的喷射出口方向与玻璃基板的传送方向之间的夹角a小于等于45度、大于等于30度。

所述主清洗喷嘴的喷射出口方向与玻璃基板垂直。

所述主清洗喷嘴以及副清洗喷嘴可转动。

本实用新型所述玻璃基板清洗单元采用主清洗喷嘴和副清洗喷嘴相结合的喷嘴安装排布方式，与现有仅仅包含与玻璃基板垂直的清洗喷嘴的清洗单元相比，本实用新型通过在腔室后段增加设置副清洗喷嘴，增强了整个清洗单元对玻璃基板上较小颗粒的去除能力，阻止清洗掉的颗粒再次附着到玻璃基板上，同时使玻璃基板上的清洗废水流向与玻璃基板的流向相反，减少了颗粒进入相邻腔室的几率。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图1中：腔室1，玻璃基板2，主清洗喷嘴3，副清洗喷嘴4，喷射出口方向5，传送方向6，风刀7。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步说明。

参见图1，本实用新型包括与传送入腔室1内的玻璃基板2相对设置的主清洗喷嘴3和副清洗喷嘴4，所述主清洗喷嘴3排布于腔室1的前段，所述主清洗喷嘴3的喷射出口方向5与玻璃基板2垂直，副清洗喷嘴4排布于腔室1的后段，副清洗喷嘴4的喷射出口方向5与玻璃基板2的传送方向6之间的夹角a小于90度，所述主清洗喷嘴3以及副清洗喷嘴4可转动，便于调整喷嘴的倾斜角度。

所述副清洗喷嘴4的喷射出口方向5与玻璃基板2的传送方向6之间的夹角a小于等于45度、大于等于30度时，清洗效果更佳。

清洗单元工作时，进入腔室1的玻璃基板2先在主清洗喷嘴3的作用下进行清洗，然后进入副清洗喷嘴4的工作区域，由于副清洗喷嘴4的喷射出口方向5与玻璃基板2的传送方向6之间的夹角a小于90度，使得副清洗喷嘴4的清洗作用方向与玻璃基板2的流向相反，可以更好的去除玻璃基板上的小颗粒，同时，使得清洗废水不会随着玻璃基板的流向进入下一个腔室，降低了颗粒对相邻腔室的污染，在相邻腔室的入口设置有干燥装置，比如风刀（air knife）7，用于对清洗后的玻璃基板进行干燥。