[实用新型]高精度超大尺寸单面抛光机有效

专利信息
申请号: 201220675235.7 申请日: 2012-12-10
公开(公告)号: CN203003626U 公开(公告)日: 2013-06-19
发明(设计)人: 张正钦;资朝红;黄震;陈志华;黄艳;李云江 申请(专利权)人: 长沙永凯科技设备有限公司;湖南电子信息产业集团有限公司
主分类号: B24B7/24 分类号: B24B7/24
代理公司: 南昌新天下专利商标代理有限公司 36115 代理人: 谢德珍
地址: 410000 湖南省*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 高精度 超大 尺寸 单面 抛光机
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及抛光机,具体为一种用于大尺寸FPD、LCD玻璃基片以及石英玻璃、视窗玻璃等硬脆材料细磨的高精度超大尺寸单面抛光机。

背景技术

单面抛光机是高精度平面抛光设备,主要作为石英晶体片、硅、锗片、陶瓷片、活塞环、阀板、阀片、轴承、蓝宝石、(FPD、LCD)玻璃基片、视窗玻璃等硬脆材料的平面抛光。现有的单面抛光机采用变频调速电机驱动PLC控制,配置大功率减速系统,软启动软停止,抛光时间根据计时器可随意设定,采用平面加压形式,在开放式设备上配备了加压气缸,可随意调节压力,易于精密研磨。由于平板显示器(FPD)尤其是液晶显示器(LCD)具有低压微功耗、平板型结构、被动显示型(无眩光,不刺激人眼,不会引起眼睛疲劳)、显示信息量大(因为像素可以做得很小)、易于彩色化(在色谱上可以非常准确的复现)、无电磁辐射(对人体安全,利于信息保密)、长寿命等诸多优点,已经越来越多的应用于电子装置领域,而对平板显示器(FPD)、液晶显示器(LCD)玻璃基板进行抛光加工也成为此领域重要的研究课题。

但是作为平板显示器(FPD)、液晶显示器(LCD)主要部件的玻璃基板在加工设备上多是采用常规抛光机,主要针对14′×16′玻璃基板的加工;随着平板电视、液晶电脑朝着大尺寸、高清晰的方向发展,对平板显示器(FPD)、液晶显示器(LCD)的要求也越来越高,研制主要针对大尺寸、高精度的LCD、FPD的玻璃基板的加工的抛光机成为亟待解决的问题。

实用新型内容

本实用新型所解决的技术问题在于提供一种高精度超大尺寸单面抛光机,以解决上述背景技术中的缺点。

本实用新型所解决的技术问题采用以下技术方案来实现:

高精度超大尺寸单面抛光机,包括机座、固定在所述机座上的抛光机构和PLC控制器,所述抛光机构包括抛光盘和抛光液桶,所述抛光液桶通过导管连接至所述抛光盘的两侧,所述抛光盘安装在所述抛光机构的主轴承座上,所述抛光盘的表面粘贴有半导体晶片抛光布;所述PLC控制器通过导线管固定在所述机座的侧面并通过导线与其内部的各部分控制模块相连。

本实用新型中,所述抛光盘包括上抛光盘和下抛光盘,所述上抛光盘固定在一导轨上,所述导轨与所述机座相连,所述上抛光盘的主轴与一升降气缸的活塞杆连接,所述下抛光盘的主轴与一减速电机相连。

本实用新型中,所述导轨通过连杆机构与一摇摆电机相连,所述升降气缸的后面连接有倾斜式气缸。所述抛光盘的尺寸为1700mm。

有益效果

本实用新型结构简单,维修方便,操作简单,能够对大尺寸FPD、LCD的玻璃基板做高精度的抛光加工,满足社会需求。

附图说明

图1为高精度超大尺寸单面抛光机的主视图。

图2为高精度超大尺寸单面抛光机的侧视图。

具体实施方式

为了使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体图示,进一步阐述本实用新型。

参见图1和图2,高精度超大尺寸单面抛光机的主视图和侧视图,高精度超大尺寸单面抛光机,包括机座2、固定在所述机座2上的抛光机构和PLC控制器1,所述抛光机构包括抛光盘和抛光液桶3,所述抛光液桶3通过导管5连接至所述抛光盘的两侧,所述抛光盘安装在所述抛光机构的主轴承座上,所述抛光盘的表面粘贴有半导体晶片抛光布;所述PLC控制器1通过导线管4固定在所述机座2的侧面并通过导线与其内部的各部分控制模块相连。

本实用新型中,所述抛光盘包括上抛光盘6和下抛光盘7,所述上抛光盘6固定在一导轨8上,所述导轨8与所述机座2相连,所述上抛光盘的主轴与一升降气缸11的活塞杆连接,所述下抛光盘7的主轴与一减速电机9相连。

本实用新型的抛光盘尺寸为1700mm,暂时还未有如此大尺寸的抛光机面市,这样的超大尺寸抛光机能够对大尺寸FPD、LCD的玻璃基板做高精度的抛光加工,满足社会需求。而且所述导轨通过连杆机构与一摇摆电机10相连,所述升降气缸11的后面连接有倾斜式气缸12。

以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征及本实用新型的优点,本行业的技术人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下,本实用新型还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内,本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

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